高精度掩模版电子束光刻关键技术研究

摘要	第1-6页
Abstract	第6-10页
第一章 绪论	第10-22页
·引言	第10-12页
·传统光学光刻技术及其面临的挑战	第12-13页
·下一代光刻技术应用前景	第13-14页
·电子束光刻及其在高精度掩模制造中的应用	第14-15页
·论文的目的与意义	第15-19页
·论文的主要内容	第19-22页
第二章 电子束光刻技术	第22-52页
·电子束光刻技术发展概况	第22-25页
·电子束光刻技术原理	第25-33页
·电子束光刻系统结构	第25-29页
·电子束光刻系统分类	第29-31页
·电子光学原理简介	第31-33页
·电子束光刻工艺技术	第33-38页
·电子抗蚀剂	第38-40页
·邻近效应校正技术	第40-51页
·电子束光刻中的邻近效应机制	第40-42页
·邻近效应的物理描述	第42-47页
·邻近效应校正技术	第47-49页
·自一致邻近效应校正技术	第49-51页
·本章小结	第51-52页
第三章 高精度掩模版电子束光刻总体方案	第52-62页
·版图的数据处理	第52-53页
·束流和束斑的选择	第53-54页
·工艺参数调整	第54-56页
·工件台和板架的定位精度	第54页
·场拼接精度调整	第54-56页
·写策略	第56-58页
·光栅扫描电子束光刻方式的邻近效应校正	第58-59页
·实验方案	第59-60页
·本章小结	第60-62页
第四章 高精度掩模版电子束光刻实验结果与分析	第62-78页
·版图处理	第63-64页
·曝光参数调整	第64页
·邻近效应校正	第64-66页
·曝光实验结果分析	第66-71页
·高精度掩模曝光制造结果	第71-76页
·本章小结	第76-78页
第五章 论文结论与展望	第78-80页
参考文献	第80-82页
致谢	第82-84页
个人简历、在学期间发表的论文与研究成果	第84页