基于数字微镜芯片的无模光刻微加工技术研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 综述 | 第11-24页 |
| ·光刻技术 | 第11-17页 |
| ·传统光刻 | 第12-13页 |
| ·软光刻 | 第13-16页 |
| ·传统的光刻和软光刻的长处与不足 | 第16-17页 |
| ·无模光刻技术 | 第17页 |
| ·数字微镜器件 | 第17-20页 |
| ·光开关和空间调制 | 第19页 |
| ·投影显示 | 第19-20页 |
| ·虚拟数字掩模 | 第20页 |
| ·阿贝成像和空间滤波 | 第20-22页 |
| ·阿贝成像理论 | 第20-21页 |
| ·空间滤波 | 第21-22页 |
| ·激光整形 | 第22页 |
| ·微流体 | 第22-24页 |
| 第二章 激光光束整形 | 第24-35页 |
| ·课题目的介绍 | 第24-29页 |
| ·整形思路分析 | 第24-26页 |
| ·伽马曲线矫正 | 第26-29页 |
| ·激光整形系统设置 | 第29-30页 |
| ·光束整形过程和结果分析 | 第30-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 无掩模光刻 | 第35-49页 |
| ·课题目的介绍 | 第35页 |
| ·无掩模光刻实验设置 | 第35-37页 |
| ·无掩模光刻实验流程 | 第37-40页 |
| ·无掩模刻蚀结果小结 | 第40-43页 |
| ·基于无掩模光刻的微透镜加工 | 第43-48页 |
| ·DMD衍射模型 | 第43-45页 |
| ·DMD衍射模型仿真 | 第45-46页 |
| ·微透镜阵列制备和讨论 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 微流体 | 第49-58页 |
| ·课题目的介绍 | 第49页 |
| ·微流体物理性质 | 第49-57页 |
| ·力学性质 | 第49-53页 |
| ·电磁性质 | 第53-56页 |
| ·热学性质 | 第56页 |
| ·光学性质 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 总结与展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文(专利)和参加的会议 | 第66页 |
