首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--一般性问题论文--材料论文--一般性问题论文

化学气相沉积法制备氟掺杂氧化锡薄膜及其性能研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第1章 绪论第10-21页
   ·引言第10页
   ·透明导电薄膜的介绍第10-11页
   ·透明导电氧化物薄膜的概述第11-14页
     ·三氧化二铟基薄膜第12-13页
     ·氧化锌基薄膜第13页
     ·氧化锡基薄膜第13-14页
   ·掺氟氧化锡(FTO)薄膜的基本性质第14-15页
   ·FTO薄膜的应用第15-17页
     ·电磁屏蔽第16页
     ·电加热膜第16页
     ·平板显示第16页
     ·气敏传感器第16页
     ·Low-E玻璃第16-17页
     ·太阳能电池第17页
     ·其他应用第17页
   ·FTO薄膜的制备方法第17-19页
     ·溅射法第17-18页
     ·喷雾热分解法第18页
     ·溶胶-凝胶法第18页
     ·脉冲激光沉积法第18-19页
     ·化学气相沉积法第19页
     ·其他方法第19页
   ·本课题的研究背景与内容第19-21页
第2章 实验与表征方法第21-27页
   ·实验装置第21-22页
   ·实验原理第22-23页
   ·实验过程第23-24页
     ·实验前期准备第23页
     ·实验制备的具体过程第23-24页
   ·测试与表征方法第24-27页
     ·电学性能测试第24页
     ·光学性能测试第24-25页
     ·雾度测试第25页
     ·晶体结构分析第25页
     ·薄膜微观表面形貌分析第25页
     ·原子力显微镜测试第25-27页
第3章 高粗糙度透明导电薄膜的制备及表征第27-40页
   ·引言第27-28页
   ·实验试剂与材料第28-29页
   ·实验原理第29页
   ·前期实验条件探索第29-32页
     ·实验过程第29-30页
     ·实验结果第30-32页
   ·高粗糙度FTO薄膜的制备第32-37页
     ·实验过程第32页
     ·实验结果第32-37页
   ·结果讨论第37-38页
   ·本章小结第38-40页
第4章 不同含锡化合物制备低电阻率FTO薄膜第40-58页
   ·引言第40-41页
   ·实验材料与试剂第41页
   ·实验原理第41-43页
     ·二甲基二氯化锡第41-42页
     ·单丁基三氯化锡第42-43页
   ·利用不同前驱体制备FTO薄膜第43-47页
     ·实验过程第43页
     ·实验结果第43-47页
   ·利用不同前驱体制备FTO薄膜的电阻率优化第47-55页
     ·实验过程第47-48页
     ·实验结果第48-55页
   ·结果讨论第55-57页
   ·本章小结第57-58页
第5章 全文总结与创新点第58-60页
   ·主要结论第58-59页
   ·创新点第59-60页
参考文献第60-67页
致谢第67-68页
硕士期间发表论文情况第68页

论文共68页,点击 下载论文
上一篇:高职院校“双师素质”教师培养体系研究
下一篇:面向物联网应用的嵌入式终端设备的开发与研究