化学气相沉积法制备氟掺杂氧化锡薄膜及其性能研究
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第1章 绪论 | 第10-21页 |
·引言 | 第10页 |
·透明导电薄膜的介绍 | 第10-11页 |
·透明导电氧化物薄膜的概述 | 第11-14页 |
·三氧化二铟基薄膜 | 第12-13页 |
·氧化锌基薄膜 | 第13页 |
·氧化锡基薄膜 | 第13-14页 |
·掺氟氧化锡(FTO)薄膜的基本性质 | 第14-15页 |
·FTO薄膜的应用 | 第15-17页 |
·电磁屏蔽 | 第16页 |
·电加热膜 | 第16页 |
·平板显示 | 第16页 |
·气敏传感器 | 第16页 |
·Low-E玻璃 | 第16-17页 |
·太阳能电池 | 第17页 |
·其他应用 | 第17页 |
·FTO薄膜的制备方法 | 第17-19页 |
·溅射法 | 第17-18页 |
·喷雾热分解法 | 第18页 |
·溶胶-凝胶法 | 第18页 |
·脉冲激光沉积法 | 第18-19页 |
·化学气相沉积法 | 第19页 |
·其他方法 | 第19页 |
·本课题的研究背景与内容 | 第19-21页 |
第2章 实验与表征方法 | 第21-27页 |
·实验装置 | 第21-22页 |
·实验原理 | 第22-23页 |
·实验过程 | 第23-24页 |
·实验前期准备 | 第23页 |
·实验制备的具体过程 | 第23-24页 |
·测试与表征方法 | 第24-27页 |
·电学性能测试 | 第24页 |
·光学性能测试 | 第24-25页 |
·雾度测试 | 第25页 |
·晶体结构分析 | 第25页 |
·薄膜微观表面形貌分析 | 第25页 |
·原子力显微镜测试 | 第25-27页 |
第3章 高粗糙度透明导电薄膜的制备及表征 | 第27-40页 |
·引言 | 第27-28页 |
·实验试剂与材料 | 第28-29页 |
·实验原理 | 第29页 |
·前期实验条件探索 | 第29-32页 |
·实验过程 | 第29-30页 |
·实验结果 | 第30-32页 |
·高粗糙度FTO薄膜的制备 | 第32-37页 |
·实验过程 | 第32页 |
·实验结果 | 第32-37页 |
·结果讨论 | 第37-38页 |
·本章小结 | 第38-40页 |
第4章 不同含锡化合物制备低电阻率FTO薄膜 | 第40-58页 |
·引言 | 第40-41页 |
·实验材料与试剂 | 第41页 |
·实验原理 | 第41-43页 |
·二甲基二氯化锡 | 第41-42页 |
·单丁基三氯化锡 | 第42-43页 |
·利用不同前驱体制备FTO薄膜 | 第43-47页 |
·实验过程 | 第43页 |
·实验结果 | 第43-47页 |
·利用不同前驱体制备FTO薄膜的电阻率优化 | 第47-55页 |
·实验过程 | 第47-48页 |
·实验结果 | 第48-55页 |
·结果讨论 | 第55-57页 |
·本章小结 | 第57-58页 |
第5章 全文总结与创新点 | 第58-60页 |
·主要结论 | 第58-59页 |
·创新点 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
硕士期间发表论文情况 | 第68页 |