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聚酰亚胺光刻工艺研究和改进
外延技术的发展与应用
光刻工艺重复图形失效问题分析和防范
大气等离子体加工技术定量去除研究
HVPE法生长厚膜GaN
新型镉基半导体纳米结构的合成与光电性能研究
N型GaN欧姆接触研究
高分辨X射线衍射技术在GaN LED生产中的应用
磷化铟晶体中与配比相关的缺陷密度研究
半导体空心微球的合成、组装及性能研究
提高良率的浅槽隔离刻蚀工艺研究
富磷条件对磷化铟晶体缺陷及Fe激活率的影响
浸润式光刻机工艺缺陷数量的优化
GaAs材料划切工艺研究
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金属/锗固相反应及接触特性研究
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铋基氧化物半导体薄膜的制备与光伏性能研究
纳米CMOS器件应变增强沟道迁移率材料的研究
TiO2-ZnO异质结构薄膜杀菌特性研究
中空二氧化钛纳米球的制备及其光催化性能研究
半导体制造中具有重入的双臂组合设备的调度与仿真
TM模808LD外延片MOCVD外延生长研究
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ZnO纳米棒阵列的制备与发光性能的调控研究
改良西门子法多晶硅生产过程的模拟与分析
晶片化学机械抛光中的质量问题的研究及解决
氧化锌铝(AZO)粉体与陶瓷靶材的制备
生产型MOCVD电气控制系统的研发
MOCVD反应室温度场的研究
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光刻机硅片对准软件系统设计与实现
Si基LED外延层中C、H、O污染的SIMS研究
Al(In,Ga)N/(In)GaN/GaN异质结材料电学性能的研究
FHXD铜线键合项目技术经济性研究
半导体材料测试仪器的设计与制作
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稀磁半导体Li(Zn1-xMnx)P的制备和NMR研究
新型红外辐射材料的制备及其在LED中的应用
SiC晶片精密研磨工艺及其表面损伤研究
基于PMAC焊线机控制系统研究及应用
Ⅲ-Ⅴ族(GaN)和Ⅱ-Ⅵ族(ZnTe)半导体材料的制备及光学特性研究
基于噪声源估计的电机故障诊断研究
P型铜铁矿结构氧化物半导体CuCrO2的掺杂效应及性能研究
面向固晶机的音圈电机优化设计与控制仿真
自旋转磨削硅片过程的磨削力研究
ZnO/p-Si异质结制备优化及光电性能研究
投影光刻调焦及DMD无掩模光刻成像研究
利用减薄—键合衬底生长GaN单晶及其缺陷的研究
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