投影光刻调焦及DMD无掩模光刻成像研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| CONTENTS | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-15页 |
| 1.1 传统的曝光技术 | 第11-12页 |
| 1.2 准分子激光投影成像曝光技术 | 第12-13页 |
| 1.3 DMD无掩模光刻技术 | 第13-14页 |
| 1.4 论文研究内容 | 第14-15页 |
| 第二章 激光投影光刻调焦 | 第15-24页 |
| 2.1 离焦对投影成像质量影响的模拟 | 第15-19页 |
| 2.1.1 光程差OPD | 第17页 |
| 2.1.2 调制传递函数MTF | 第17-18页 |
| 2.1.3 畸变 | 第18-19页 |
| 2.1.4 放大率误差 | 第19页 |
| 2.1.5 照明波长带宽 | 第19页 |
| 2.2 投影成像光刻调焦系统 | 第19-21页 |
| 2.3 实验与讨论 | 第21-22页 |
| 2.3.1 投影成像光刻实验 | 第21-22页 |
| 2.3.2 结果分析 | 第22页 |
| 2.4 本章小结 | 第22-24页 |
| 第三章 DMD无掩模光刻 | 第24-33页 |
| 3.1 电子束直写技术 | 第24页 |
| 3.2 离子束投影光刻 | 第24-25页 |
| 3.3 干涉光刻技术 | 第25页 |
| 3.4 DMD无掩模光刻 | 第25-32页 |
| 3.4.1 DMD介绍 | 第25-28页 |
| 3.4.2 DMD无掩模数字光刻 | 第28-29页 |
| 3.4.3 DMD点阵式光刻 | 第29-31页 |
| 3.4.4 DMD投影成像光刻 | 第31-32页 |
| 3.5 本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 数字光刻投影物镜设计 | 第33-49页 |
| 4.1 成像系统结构和光学参数 | 第33-35页 |
| 4.1.1 光刻物镜光学参数 | 第33页 |
| 4.1.2 系统结构 | 第33-34页 |
| 4.1.3 数值孔径NA和玻璃的确定 | 第34-35页 |
| 4.1.4 像差校正 | 第35页 |
| 4.2 微缩双远心光刻物镜设计 | 第35-47页 |
| 4.2.1 前半部L1的设计 | 第35-39页 |
| 4.2.2 后半部L2的设计 | 第39-47页 |
| 4.3 本章小结 | 第47-49页 |
| 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 攻读学位期间发表的论文及申请的专利 | 第55-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
