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一般性问题
高温厚铝溅射时柱状突起缺陷的控制与优化
利用OPC工具预测及改善光刻工艺中的图形缺陷
有关半导体工艺中离子注入能量的研究
在半导体制造中使用物理气相沉积代替化学气相沉积来生长氮化钛阻挡层
提高钨在半导体制造中填孔能力的研究
半导体制程中金属钨插塞腐蚀问题的研究
半导体制造中的效率优化研究
硼扩散片制备技术研究
LED芯片检测算法研究及实现
蓝色有机发光材料光电性能的理论研究及器件制备
InAlGaN材料系多量子阱结构电子学特性的研究
验证聚合物发光电化学池中p-n结的电流电压特性
氧化锌掺铁稀磁半导体的制备和性质研究
InP/GaAs、GaAs/Si、InP/GaAs/Si异质外延生长技术及其在集成光电子器件中的应用
宽带隙半导体SiC、ZnO的同步辐射光电子能谱研究
外延Pb(Zr0.52Ti0.48)O3单晶薄膜的制备与性能研究
宽禁带半导体器件的研制及其测量技术
含硼（B）光电子材料的理论计算和实验研究
GaAs/Si和含B光电子材料异质外延生长的理论和实验研究
聚酰亚胺/介孔分子筛低介电常数复合薄膜的制备及性能研究
含铁水滑石在较低温度下转化为尖晶石的行为研究及含铁水滑石与铁氧体在单晶硅表面的组装及光电性能研究
低能重离子辐照GaN损伤的实验研究
纳米梁结构制备工艺、检测方法和应用研究
柠檬酸法制备La1-xSrxCo0.2Fe0.8O3阴极材料及其性能研究
脉冲激光曝光SU-8胶的基础与光刻技术研究
钙钛矿锰氧化物基异质结的制备及磁电性能研究
一些有机半导体材料电荷传输性能的理论研究
具有多环特性的半导体封装测试系统性能分析
离子注入GaN的光学和电学特性研究
C注入、及C+Si和C+Mg共注n型GaN发光性质的研究
静电感应器件的研制
磁控溅射法制备氧化钒薄膜及其特性研究
有机电双稳器件研究
大功率静电感应器件的研制
III族氮化物半导体中极化场的调控
光刻仿真中二维掩模近场的扩展傅立叶分析和严格耦合波分析
ICP刻蚀SiC机制及表面损伤的研究
AllnN材料的生长及其紫外LED的研制
多壁碳纳米管/聚苯胺复合材料的制备及其在超级电容器中的应用
掺锶的钛酸铅铁电薄膜性能研究
稀土离子掺杂对SrAl2O4：Eu2+，Dy3+长余辉发光材料发光性能的影响
LED框架供送及点浆装置的设计开发
ZnO基热电材料的制备及其性能研究
氧化钽高K薄膜的制备、结构和光、电性能的研究
定向碳纳米管阵列膜的制备及其电性能研究
SiCl4/H2为气源沉积多晶硅薄膜的电输运特性的研究
一种硅基多孔薄膜的制备及其介电性能研究
钛酸铋系铁电薄膜材料改性研究
激光沉积TiO2基复合薄膜及其光学特性
脉冲激光沉积ZnO薄膜及其性质研究
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