| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-10页 |
| 第一章 氧化钒薄膜制备技术综述 | 第10-15页 |
| ·国外技术的进展 | 第10-12页 |
| ·国内技术的进展 | 第12-14页 |
| ·研究的目的和意义 | 第14-15页 |
| 第二章 氧化钒的基本性质和相变机理 | 第15-28页 |
| ·探测率的定义及分析 | 第15-17页 |
| ·钒-氧化合物组成及性质 | 第17-22页 |
| ·二氧化钒的结构特性及相变机理 | 第22-26页 |
| ·掺杂二氧化钒改变相变特性的机理 | 第26-28页 |
| ·掺杂元素对相变温度的影响 | 第26-27页 |
| ·掺杂对相变滞豫的影响 | 第27-28页 |
| 第三章 薄膜的制备 | 第28-36页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第28-30页 |
| ·单合金靶反应溅射法 | 第28页 |
| ·溶胶-凝胶掺杂法 | 第28-29页 |
| ·脉冲激光沉积工艺 | 第29页 |
| ·双靶反应共溅射法 | 第29页 |
| ·离子注入法 | 第29-30页 |
| ·离子轰击固体表面发生的现象 | 第30-31页 |
| ·入射离子能量及工作气压对物质溅射的影响 | 第31-33页 |
| ·磁控溅射 | 第33-34页 |
| ·实验设备及工艺条件 | 第34-36页 |
| 第四章 薄膜特性测试及分析 | 第36-49页 |
| ·反应气体分压对薄膜电阻的影响 | 第36-37页 |
| ·基底温度对薄膜电阻的影响 | 第37页 |
| ·原子力显微镜(AFM)分析 | 第37-41页 |
| ·X射线衍射测试 | 第41-43页 |
| ·磁控溅射沉积掺杂Ti/Al二氧化钒薄膜的工艺条件与特性测试 | 第43-44页 |
| ·热处理工艺对于以石英片为基地的氧化钒薄膜的影响 | 第44-45页 |
| ·掺铝二氧化钒薄膜的相变曲线 | 第45-46页 |
| ·掺钛二氧化钒薄膜的相变曲线 | 第46-47页 |
| ·氧化钒薄膜的透射光谱 | 第47-49页 |
| 第五章 结论与展望 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 在学期间发表的论文 | 第54页 |