| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·引言 | 第10-13页 |
| ·关于铁电薄膜 | 第13-15页 |
| ·铁电薄膜的研究及应用现状 | 第15-18页 |
| ·在DRAM中应用的铁电材料 | 第16-17页 |
| ·铁电材料研究中面临的问题 | 第17-18页 |
| ·本文的主要研究工作内容 | 第18-20页 |
| 第二章(Pb_(1-x)Sr_x)TiO_3和金属氧化物电极材料特性 | 第20-26页 |
| ·前言 | 第20-21页 |
| ·PST薄膜材料的研究现状 | 第21-23页 |
| ·金属氧化物特性 | 第23-26页 |
| ·铁电薄膜/半导体异质结构 | 第23-25页 |
| ·LaNiO_3金属氧化物材料特性 | 第25-26页 |
| 第三章 溶胶-凝胶法制备薄膜样品 | 第26-34页 |
| ·前言 | 第26-28页 |
| ·溶胶-凝胶法制备前驱体溶液和薄膜样品 | 第28页 |
| ·PST50纳米粉的制备和热分解过程 | 第28-34页 |
| ·PST50纳米粉的结构和表面形貌 | 第29-31页 |
| ·PST50纳米粉的TG/DSC和红外分析 | 第31-34页 |
| 第四章 不同衬底上(Pb_(o.5)Sr_(o.5)TiO_3铁电薄膜性能研究 | 第34-47页 |
| ·前言 | 第34-35页 |
| ·样品的制备和表征 | 第35-36页 |
| ·PST50薄膜结构和性能研究 | 第36-47页 |
| ·PST50薄膜的结构分析 | 第36-38页 |
| ·不同衬底上薄膜的形貌图像及分析 | 第38-41页 |
| ·不同衬底上的铁电和介电性能 | 第41-43页 |
| ·PST50铁电薄膜的电畴结构 | 第43-47页 |
| 第五章 (Pb_(0.25)Sr_(0.75)TiO_3薄膜的介电和漏电流特性研究 | 第47-57页 |
| ·前言 | 第47页 |
| ·(Pb_(0.25)Sr_(0.75)TiO_3薄膜的特性 | 第47-57页 |
| ·(Pb_(0.25)Sr_(0.75)TiO_3薄膜的结构和形貌 | 第47-49页 |
| ·(Pb_(0.25)Sr_(0.75)TiO_3薄膜的介电特性 | 第49-51页 |
| ·(Pb_(0.25)Sr_(0.75)TiO_3薄膜的介电温度关系 | 第51-54页 |
| ·(Pb_(0.25)Sr_(0.75)TiO_3薄膜的漏电流特性 | 第54-57页 |
| 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-67页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 附录 | 第70页 |
