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有关半导体工艺中离子注入能量的研究

摘要第1-4页
Abstract第4-5页
引言第5-7页
第一章 离子注入简介第7-14页
 第一节 离子注入原理第7-9页
 第二节 离子注入工艺的监控第9-12页
 第三节 离子注入工艺关键参数第12-14页
第二章 离子注入中的能量污染第14-21页
 第一节 能量污染介绍第14-16页
 第二节 离子注入机加减速与能量污染的关系第16-19页
 第三节 能量污染与器件电性第19-21页
第三章 能量污染对90nm工艺器件的影响第21-33页
 第一节 离子注入工艺的现状第21-22页
 第二节 离子注入工艺在晶圆上的测试实验第22-23页
 第三节 离子注入在90nm工艺中的实验设计第23-30页
 第四节 能量污染对90nm工艺器件的影响第30-32页
 第五节 实验总结第32-33页
第四章 能量污染的挑战以及改善第33-40页
 第一节 能量污染对更小尺寸工艺机器的影响第33-38页
 第二节 能量污染的改善第38-40页
第五章 论文总结第40-41页
参考文献第41-45页
致谢第45-46页

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