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宽带隙半导体SiC、ZnO的同步辐射光电子能谱研究

摘要第1-9页
Abstract第9-12页
第一章 绪论第12-42页
 §1.1 宽带隙半导体ZnO和SiC第13-22页
     ·ZnO的晶体结构第13页
     ·ZnO的性质第13-14页
     ·ZnO的应用第14-16页
     ·SiC的晶体结构和多型性第16-18页
     ·SiC的性质第18-20页
     ·SiC的应用第20-22页
 §1.2 角分辨光电子能谱第22-38页
     ·基本原理第22-24页
     ·实验方法第24-27页
     ·角分辨光电子能谱的最新进展第27-31页
     ·同步辐射光电子能谱在宽带隙半导体研究中的应用第31-38页
 §1.3 本论文的选题第38-40页
 参考文献第40-42页
第二章 实验仪器设备和理论计算方法第42-56页
 §2.1 实验仪器设备第43-47页
     ·NSRL表面物理光束线和实验站第43-45页
     ·SSLS表面、界面及纳米结构科学光束线和实验站第45-47页
 §2.2 理论计算方法第47-53页
     ·第一性原理方法简介第48-49页
     ·第一性原理方法的应用第49-50页
     ·全势线性缀加平面波方法原理简介第50-53页
     ·WIEN2K程序包简介第53页
 §2.3 本章小结第53-55页
 参考文献第55-56页
第三章 SiC表面和界面的同步辐射光电子能谱研究第56-86页
 §3.1 SiC重构表面的角分辨光电子能谱研究第57-69页
     ·前言第57-59页
     ·实验介绍第59-60页
     ·实验结果和讨论第60-68页
     ·本节小结第68-69页
 §3.2 Mn/SiC(0001)界面的同步辐射光电子能谱研究第69-75页
     ·前言第69页
     ·实验介绍第69-70页
     ·实验结果和讨论第70-74页
     ·本节小结第74-75页
 §3.3 C_(60)/Si(111)界面及SiC形成的光电子能谱研究第75-81页
     ·前言第75页
     ·实验介绍第75-76页
     ·实验结果和讨论第76-80页
     ·本节小结第80-81页
 §3.4 本章小结第81-82页
 参考文献第82-86页
第四章 ZnO同步辐射光电发射及氢掺杂缺陷态的理论研究第86-110页
 §4.1 ZnO(0001)表面的同步辐射角分辨光电子能谱研究第86-94页
     ·前言第86-87页
     ·实验介绍和理论计算方法第87-89页
     ·实验结果和讨论第89-93页
     ·本节小结第93-94页
 §4.2 ZnO表面极性的X射线光电子衍射研究第94-99页
     ·光电子衍射技术简介第94-95页
     ·实验介绍和理论计算方法第95-96页
     ·实验结果和讨论第96-98页
     ·本节小结第98-99页
 §4.3 氢掺杂ZnO缺陷态的理论研究第99-105页
     ·前言第99页
     ·缺陷形成能计算方法第99-103页
     ·缺陷态局域振动模式第103-105页
     ·本节小结第105页
 §4.4 本章小结第105-107页
 参考文献第107-110页
发表论文第110-112页
致谢第112页

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