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半导体制造中的效率优化研究

摘要第1-5页
Abstract第5-6页
第一章 半导体制造工艺简介第6-10页
     ·光刻第6-7页
     ·蚀刻第7页
     ·植入离子第7-8页
     ·化学机械平坦化第8-9页
     ·金属化第9页
     ·氧化第9-10页
第二章 生产线的产能规划第10-28页
     ·设施布局第10-22页
       ·设施布置类型选择的影响因素第11页
       ·工厂布置的目标与原则第11-12页
       ·工厂车间布置的形式第12-13页
       ·两种定量分析方法第13-22页
     ·物料搬运系统第22-23页
     ·标 准 生 产 力 的 制 定第23-28页
       ·时间分析第23-27页
       ·机台效率第27-28页
第三章 生产线的平衡和效率优化第28-50页
     ·生 产 线 平 衡第28-32页
       ·生产线平衡的内涵与目标第28-30页
       ·生产线平衡的意义第30页
       ·生产线平衡的衡量标准第30-32页
     ·关键工序的效率优化第32-44页
       ·中电流离子植入机台的效率提高第32-38页
       ·CVD区域混合生产的硼磷硅玻璃沉积机台的效率优化第38-44页
     ·生产周期的优化第44-50页
第四章 仿真系统对生产线优化的研究第50-57页
     ·EXTEND仿真系统的介绍第50页
     ·变化性对生产线的影响第50-51页
     ·静态瓶颈和动态瓶颈的仿真研究第51-55页
     ·返工对生产效率的影响第55-57页
       ·返工对生产线中的非瓶颈机台的影响第55页
       ·返工对生产线中的瓶颈机台的影响第55-57页
总结第57-58页
参考文献第58-59页
发表论文和参加科研项目第59-60页
致谢第60页

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