摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 半导体制造工艺简介 | 第6-10页 |
·光刻 | 第6-7页 |
·蚀刻 | 第7页 |
·植入离子 | 第7-8页 |
·化学机械平坦化 | 第8-9页 |
·金属化 | 第9页 |
·氧化 | 第9-10页 |
第二章 生产线的产能规划 | 第10-28页 |
·设施布局 | 第10-22页 |
·设施布置类型选择的影响因素 | 第11页 |
·工厂布置的目标与原则 | 第11-12页 |
·工厂车间布置的形式 | 第12-13页 |
·两种定量分析方法 | 第13-22页 |
·物料搬运系统 | 第22-23页 |
·标 准 生 产 力 的 制 定 | 第23-28页 |
·时间分析 | 第23-27页 |
·机台效率 | 第27-28页 |
第三章 生产线的平衡和效率优化 | 第28-50页 |
·生 产 线 平 衡 | 第28-32页 |
·生产线平衡的内涵与目标 | 第28-30页 |
·生产线平衡的意义 | 第30页 |
·生产线平衡的衡量标准 | 第30-32页 |
·关键工序的效率优化 | 第32-44页 |
·中电流离子植入机台的效率提高 | 第32-38页 |
·CVD区域混合生产的硼磷硅玻璃沉积机台的效率优化 | 第38-44页 |
·生产周期的优化 | 第44-50页 |
第四章 仿真系统对生产线优化的研究 | 第50-57页 |
·EXTEND仿真系统的介绍 | 第50页 |
·变化性对生产线的影响 | 第50-51页 |
·静态瓶颈和动态瓶颈的仿真研究 | 第51-55页 |
·返工对生产效率的影响 | 第55-57页 |
·返工对生产线中的非瓶颈机台的影响 | 第55页 |
·返工对生产线中的瓶颈机台的影响 | 第55-57页 |
总结 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-59页 |
发表论文和参加科研项目 | 第59-60页 |
致谢 | 第60页 |