一种硅基多孔薄膜的制备及其介电性能研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-6页
目录	第6-8页
1 绪论	第8-27页
·选题背景	第8-11页
·降低介电常数的常用方法	第11-14页
·低介电常数材料的基本介绍	第14-22页
·目前IC低介电材料的制备方法及对介电常数的影响	第22-24页
·PPSQ材料简介	第24-26页
·本文的研究内容	第26-27页
2 PPSQ基多孔薄膜的制备	第27-37页
·概述	第27-28页
·实验试剂及设备	第28-29页
·衬底材料的清洁	第29-30页
·旋涂液的准备	第30-33页
·旋涂工艺探索	第33-35页
·固化烧结工艺	第35页
·本章总结	第35-37页
3 薄膜的性能表征	第37-47页
·引言	第37页
·薄膜吸湿性	第37-40页
·介电常数测定	第40-43页
·薄膜表面形貌表征	第43-45页
·本章总结	第45-47页
4 多孔薄膜的小角X射线散射技术表征	第47-53页
·引言	第47页
·SAXS实验条件及原理	第47-48页
·数据收集与处理方法简述	第48-50页
·实验操作及注意事项	第50页
·实验结果与分析	第50-52页
·本章小结	第52-53页
5 全文总结	第53-54页
参考文献	第54-60页
致谢	第60页