脉冲激光曝光SU-8胶的基础与光刻技术研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-20页 |
| ·微电子机械系统（MEMS）发展趋势及应用 | 第8-11页 |
| ·MEMS制造工艺 | 第11-15页 |
| ·LIGA技术 | 第11-13页 |
| ·准LIGA技术 | 第13-15页 |
| ·激光微加工技术在MEMS中的应用 | 第15-19页 |
| ·脉冲激光直接微加工技术 | 第15-17页 |
| ·LASER-LIGA技术 | 第17-18页 |
| ·激光辅助加工技术 | 第18-19页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 光学曝光技术 | 第20-24页 |
| ·光学曝光方式与原理 | 第20-22页 |
| ·光学曝光的工艺过程 | 第22页 |
| ·光学掩模版的设计 | 第22-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 第3章 SU-8 光刻胶的曝光光刻技术 | 第24-39页 |
| ·光刻胶的特性 | 第24-28页 |
| ·光刻胶的一般性质 | 第24-25页 |
| ·光刻胶的分类 | 第25-28页 |
| ·SU-8 光刻胶及目前的应用 | 第28-31页 |
| ·SU-8 光刻胶的化学结构 | 第28-29页 |
| ·SU-8 光刻胶在MEMS制造中的应用 | 第29-31页 |
| ·SU-8 胶光刻在曝光过程中的物理与化学变化 | 第31-32页 |
| ·SU-8 光刻胶的工艺过程 | 第32-38页 |
| ·前期工作 | 第32-33页 |
| ·曝光工艺流程 | 第33-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 脉冲激光曝光SU-8 胶的机理分析 | 第39-53页 |
| ·激光曝光光刻的特性 | 第39-41页 |
| ·激光曝光SU-8 胶实验 | 第41-43页 |
| ·样品制备 | 第41页 |
| ·激光曝光系统的选用及曝光 | 第41-43页 |
| ·激光曝光SU-8 光刻胶的光谱分析 | 第43-51页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第43-47页 |
| ·傅立叶变换红外光谱分析 | 第47-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 第5章 SU-8 胶微结构的激光曝光制备 | 第53-60页 |
| ·光路设计 | 第53-54页 |
| ·激光曝光SU-8 胶工艺过程的参数优化 | 第54-59页 |
| ·曝光量与曝光深度之间的关系 | 第54-57页 |
| ·显影参数优化 | 第57-59页 |
| ·SU-8 胶微结构样品制作 | 第59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 总结与展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
