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材料
镶嵌在SiO2介质中的纳米晶Si的制备及其光致发光特性研究
硅基高κ材料的分子束外延生长
CVD金刚石薄膜的制备及其特性和器件化研究
新型聚对苯乙炔（PPV）衍生物的合成及其在发光二极管和太阳电池中的应用研究
ZnO半导体光电材料的制备及其性能的研究
Al-N共掺法生长p型ZnO及ZnO同质p-n结的制备
新结构SOI材料与器件物理研究
SGOI材料的SIMOX制备技术研究
厚膜SOI材料和SiGeOI材料制备研究
离子注入掺Er富硅氧化硅材料研究
SOI基锗硅弛豫研究及绝缘体上应变硅材料制备
埋嵌在高k介质中Ge纳米晶的制备及其电荷存储特性的研究
Al-N共掺法制备P型ZnO及其性能研究
MEMS中多孔硅基本特性及绝热性能研究
大直径直拉硅片的一种新型内吸杂工艺研究
宽带p型CuSCN薄膜的电沉积、结构与性能的研究
离子层气相反应法（ILGAR）制备硫属半导体薄膜的研究
SRO薄膜的直流溅射生长
多孔硅的光电特性研究及阵列化多孔硅的制备
利用掺锗的重掺硼硅衬底生长无失配位错的p/p～+硅外延片
金属修饰的负载型复合半导体的制备及光催化CO2和丙烷合成异丁烯醛的反应性能
硒化镉室温核辐射探测器的表面电极研究
ZnO微管材料及光电性能研究
TiO2掺杂LaMnO3系NTC材料的研究
典型半导体材料的第一性原理研究
快中子辐照直拉硅的电学性能及辐照缺陷研究
生长Φ8“直拉硅单晶Φ8”热场研究及数值模拟
络合—聚合法制备LaFeO3半导体薄膜及其丙酮气体敏感性能研究
NiO基半导体光电薄膜的制备及性能研究
新型低辐射薄膜TiN的APCVD法制备及性能研究
吩噻嗪、噁二唑半导体材料的制备及其发光性能的研究
SiC纳米晶薄膜的制备及发光性质
金刚石衬底上压电薄膜的制备研究
自支撑优质金刚石膜制备及红外透射特性研究
单晶硅片的超精密加工技术研究
溶胶凝胶阳离子染料薄膜的制备及非线性光学性能研究
纳米TiO2催化剂的制备及用ECR氮等离子体对其改性的研究
ICP等离子体增强化学气相沉积制备纳米粉体氮化硅特性研究
ECR等离子体参数空间分布特性研究及制备GaN薄膜中的应用
半导体材料科学中的漂移扩散模型和流体动力学模型分析
SiO2/SiC界面特性研究
新型PST铁电薄膜的制备及其性能研究
CdS-TiO2复合半导体薄膜的制备及其光催化性能的研究
液相沉积TiO2薄膜的制备，表征和光催化活性
微波等离子体低温CVD金刚石膜工艺和机理研究
介孔二氧化硅球形颗粒的制备与表征
SiO2及Sn:SiO2溶胶—凝胶波导材料的制备及其特性研究
金属有机物化学汽相外延法生长ZnO薄膜
Ⅱ-Ⅵ族纳米半导体的光学特性的研究
纳米ZnO的光学特性及其纳米涂层激光散射特性研究
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