| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| ·研究背景及意义 | 第9页 |
| ·声表面波技术与声表面波器件 | 第9-12页 |
| ·SAW技术的发展 | 第9-10页 |
| ·声表面波滤波器的结构原理 | 第10-11页 |
| ·SAWF的发展趋势 | 第11-12页 |
| ·IDT/压电薄膜/金刚石多层膜高频SAW器件 | 第12-17页 |
| ·压电薄膜/金刚石/IDT高频SAW器件的原理和结构 | 第13-15页 |
| ·高频SAW器件压电薄膜 | 第15-16页 |
| ·铌酸锂（LN）薄膜的特性 | 第16页 |
| ·铌酸锂（LN）薄膜的制备方法 | 第16-17页 |
| ·金刚石多层膜SAW滤波器的模拟 | 第17-18页 |
| ·国内外研究现状 | 第18-19页 |
| ·本文的立项依据和主要工作 | 第19-21页 |
| 第二章 多层膜SAWF的模拟设计 | 第21-35页 |
| ·引言 | 第21-22页 |
| ·模态耦合模型的设计原理 | 第22-29页 |
| ·在周期性结构中的波动方程 | 第22-24页 |
| ·模态耦合理论 | 第24-29页 |
| ·声表面波滤波器的模拟 | 第29-34页 |
| ·声表面波器件的传输矩阵模型 | 第29-33页 |
| ·设计参数及模拟结果 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 基于SAWD铌酸锂薄膜的特性研究 | 第35-40页 |
| ·声表面波材料 | 第35-36页 |
| ·铌酸锂的结构和特性 | 第36-40页 |
| 第四章 铌酸锂压电薄膜的制备技术研究 | 第40-49页 |
| ·射频磁控溅射装置 | 第40-41页 |
| ·射频磁控溅射工作原理 | 第41-44页 |
| ·射频磁控溅射制备工艺 | 第44-49页 |
| ·靶材对铌酸锂薄膜质量的影响 | 第44-47页 |
| ·基片的清洗 | 第47-48页 |
| ·薄膜制备 | 第48页 |
| ·分析表征方法 | 第48-49页 |
| 第五章 在金刚石衬底上沉积铌酸锂薄膜的实验研究 | 第49-61页 |
| ·金刚石衬底优良声表面波性能 | 第49-51页 |
| ·偏压对铌酸锂薄膜取向的影响 | 第51-53页 |
| ·温度对铌酸锂薄膜取向的影响 | 第53-56页 |
| ·压力对铌酸锂薄膜取向的影响 | 第56-58页 |
| ·氧氩比对铌酸锂薄膜取向的影响 | 第58-60页 |
| ·本章小节 | 第60-61页 |
| 第六章 结论与未来展望 | 第61-63页 |
| ·结论 | 第61页 |
| ·未来展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 发表论文以及参与科研 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |