自支撑优质金刚石膜制备及红外透射特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| ·金刚石的结构和优异特性 | 第9-13页 |
| ·红外光学应用对材料的要求 | 第13-15页 |
| ·化学气相沉积金刚石膜的发展历史 | 第15-16页 |
| ·国内外研究、应用动态 | 第16-17页 |
| ·常用的金刚石膜的沉积方法 | 第17-19页 |
| ·金刚石膜的常用表征方法 | 第19-21页 |
| ·本文的研究目的和内容 | 第21-23页 |
| 第二章 化学气相沉积原理概述 | 第23-32页 |
| ·化学气相沉积金刚石膜的一般条件 | 第23页 |
| ·化学气相沉积(CVD)基本原理 | 第23-28页 |
| ·低压化学气相CVD金刚石相图 | 第23-25页 |
| ·金刚石形核 | 第25页 |
| ·亚稳态生长与原子氢的作用 | 第25-26页 |
| ·CVD金刚石膜的反应过程 | 第26-28页 |
| ·生长模型 | 第28-30页 |
| ·CVD法的非平衡热力学耦合模型 | 第28页 |
| ·CVD法生长金刚石膜的动力学模型 | 第28-30页 |
| ·金刚石形貌的改变 | 第30-32页 |
| 第三章 利用热丝CVD方法合成自支撑金刚石膜 | 第32-49页 |
| ·实验装置 | 第32-34页 |
| ·影响金刚石薄膜生长的主要因素 | 第34-36页 |
| ·金刚石膜的制备 | 第36-39页 |
| ·实验结果分析 | 第39-43页 |
| ·自支撑金刚石膜的获得 | 第43-44页 |
| ·应力分析 | 第44-45页 |
| ·透射率模型 | 第45-48页 |
| ·实验过程出现的问题及原因分析 | 第48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 第四章 微波等离子体CVD法制备金刚石膜 | 第49-61页 |
| ·微波等离子体及其特点 | 第49-50页 |
| ·微波等离子体的CVD装置 | 第50-53页 |
| ·金刚石膜的沉积 | 第53-60页 |
| ·影响因素 | 第53-54页 |
| ·金刚石膜的制备与结果分析 | 第54-60页 |
| ·小结 | 第60-61页 |
| 第五章 结论 | 第61-62页 |
| ·工作总结 | 第61页 |
| ·工作展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
