| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-21页 |
| ·引言 | 第8-10页 |
| ·铁电薄膜器件的电极材料 | 第10-12页 |
| ·SRO 材料的结构与性质 | 第12-13页 |
| ·SRO 薄膜的制备方法 | 第13-16页 |
| ·SRO 薄膜在各种基片上的微观结构和生长机理 | 第16-19页 |
| ·SRO 的应用及研究现状 | 第19页 |
| ·本论文的主要工作 | 第19-21页 |
| 第二章 实验方法 | 第21-30页 |
| ·SRO 薄膜沉积的工艺方法 | 第21-23页 |
| ·DC 溅射原理 | 第21-22页 |
| ·RF 溅射原理 | 第22页 |
| ·本文所采用DC 溅射系统简介 | 第22-23页 |
| ·微观分析方法 | 第23-27页 |
| ·X 射线衍射原理 | 第24-25页 |
| ·SEM 的工作原理 | 第25-26页 |
| ·AFM 的工作原理 | 第26-27页 |
| ·电性能测试方法 | 第27-30页 |
| ·四探针测量原理 | 第27-28页 |
| ·介电性能测试方法 | 第28-30页 |
| 第三章 靶材的制备 | 第30-38页 |
| ·实验过程 | 第30-34页 |
| ·结果分析 | 第34-38页 |
| ·样品的XRD 分析 | 第34-37页 |
| ·样品的电镜扫描(SEM)分析 | 第37-38页 |
| 第四章 SRO 薄膜的直流溅射工艺研究 | 第38-52页 |
| ·工艺参数对LAAL03 基片上沉积SRO 薄膜的影响 | 第38-43页 |
| ·沉积温度对 SRO 薄膜的影响 | 第38-40页 |
| ·02/Ar 比对SRO 薄膜的影响 | 第40-42页 |
| ·气体总压对 SRO 薄膜表面形貌的影响 | 第42-43页 |
| ·温度对 SRO 薄膜电阻率的影响 | 第43页 |
| ·工艺参数对 PT/TI/5102/SI 上沉积SRO 薄膜的影响 | 第43-52页 |
| ·沉积温度对 SRO 薄膜表面形貌的影响 | 第43-45页 |
| ·溅射功率对 SRO 薄膜表面形貌的影响 | 第45-46页 |
| ·气体总压对 SRO 薄膜表面形貌的影响 | 第46-47页 |
| ·02/Ar 比对SRO 薄膜表面形貌的影响 | 第47-48页 |
| ·沉积时间对 SRO 薄膜表面形貌的影响 | 第48-50页 |
| ·SRO 结晶情况研究 | 第50-52页 |
| 第五章 BST/SRO 集成薄膜的生长 | 第52-59页 |
| ·BST/SRO 多层薄膜的微观结构 | 第52-53页 |
| ·BST 膜的介电性质研究 | 第53-57页 |
| ·BST/SRO/PT 和BST/PT 的电性能比较 | 第57-59页 |
| 第六章 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文 | 第64页 |
