| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·ER元素简介 | 第11-12页 |
| ·EDFA与EDWA | 第12-15页 |
| ·EDFA发展进程 | 第12-13页 |
| ·EDWA的提出 | 第13-14页 |
| ·EDFA与EDWA比较 | 第14-15页 |
| ·决定EDWA增益的因素 | 第15-18页 |
| ·铒的固溶度 | 第15-16页 |
| ·泵浦光波长 | 第16页 |
| ·泵浦光吸收 | 第16页 |
| ·浓度淬灭效应 | 第16-17页 |
| ·激发态吸收 | 第17-18页 |
| ·温度淬灭效应 | 第18页 |
| ·EDWA研究进展 | 第18-21页 |
| ·硅基EDWA研究 | 第21-23页 |
| ·本论文内容 | 第23-26页 |
| 第二章 硅基掺铒发光材料导论 | 第26-33页 |
| ·引言 | 第26-28页 |
| ·掺铒单晶硅光学特性 | 第28-30页 |
| ·Er在单晶硅中的溶解度 | 第28页 |
| ·Er在晶体硅中的激发和去激发 | 第28-30页 |
| ·掺铒富硅氧化硅材料(ERSRSO) | 第30-31页 |
| ·ErSRSO模型 | 第31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 第三章 掺铒富硅氧化硅材料制备与表征 | 第33-55页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·离子注入法制备ERSRSO材料 | 第33-35页 |
| ·材料微观结构表征 | 第35-43页 |
| ·RBS分析 | 第35-37页 |
| ·XRD分析 | 第37-39页 |
| ·TEM分析 | 第39-40页 |
| ·Raman光谱分析 | 第40-43页 |
| ·讨论 | 第43-44页 |
| ·ER离子在材料中的分布 | 第44-45页 |
| ·XPS及其演化分析 | 第45-50页 |
| ·共溅射沉积法制备ERSRSO材料 | 第50-54页 |
| ·样品制备与表征 | 第50-52页 |
| ·样品的光致发光特性 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 掺铒富硅氧化硅材料的光致发光 | 第55-69页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·光致发光测试系统 | 第55-57页 |
| ·ERSRSO中SI-NC发光 | 第57-59页 |
| ·Si-nc光致发光谱 | 第57-58页 |
| ·退火对发光影响 | 第58-59页 |
| ·ERSRSO中ER离子发光 | 第59-60页 |
| ·SI-NC与ER发光关系 | 第60-62页 |
| ·ER发光的温度淬灭 | 第62-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 第五章 ERSRSO系统速率方程 | 第69-78页 |
| ·引言 | 第69页 |
| ·常用速率方程及其解 | 第69-71页 |
| ·直接激发Er~(3+)的速率方程和吸收截面 | 第69-70页 |
| ·间接激发Er~(3+)的速率方程和有效吸收截面 | 第70-71页 |
| ·ERSRSO材料的速率方程 | 第71-74页 |
| ·实验结果与讨论 | 第74-76页 |
| ·本章小结 | 第76-78页 |
| 第六章 SI-NC与ER~(3+)耦合机制及耦合范围 | 第78-93页 |
| ·引言 | 第78页 |
| ·FORSTER模型简介 | 第78-81页 |
| ·Forster模型适用系统 | 第78-79页 |
| ·Forster模型应用领域 | 第79-80页 |
| ·Forster模型原理 | 第80-81页 |
| ·FORSTER模型在ERSRSO材料中的应用 | 第81-82页 |
| ·SI-NC与ER~(3+)耦合范围 | 第82-83页 |
| ·实验与分析 | 第83-91页 |
| ·理论基础 | 第83-84页 |
| ·实验方法 | 第84-85页 |
| ·结果与讨论 | 第85-91页 |
| ·本章小结 | 第91-93页 |
| 第七章 结论 | 第93-95页 |
| 参考文献 | 第95-107页 |
| 附录 本论文缩略语 | 第107-109页 |
| 攻读博士期间发表的学术论文 | 第109-111页 |
| 致谢 | 第111-112页 |
| 个人简历 | 第112-113页 |
| 学位论文独创性声明 | 第113页 |
| 学位论文使用授权声明 | 第113页 |