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CVD金刚石薄膜的制备及其特性和器件化研究

第一章 序言第1-14页
 1.1 金刚石的结构第9页
 1.2 CVD金刚石的性质第9-10页
 1.3 CVD金刚石的应用第10-11页
 1.4 本文的主要内容和结构第11-14页
第二章 CVD金刚石的成膜机理和制备方法第14-27页
 2.1 引言第14页
 2.2 成膜机理第14-20页
  2.2 1 SP~3杂化轨道与金刚石结构第14-15页
  2.2.2 SP~2杂化轨道与石墨结构第15-17页
  2.2.3 金刚石薄膜的合成机理及其讨论第17-20页
 2.3 制备方法第20-24页
  2.3.1 热灯丝辅助CVD第21-22页
  2.3.2 微波等离子体辅助CVD第22-23页
  2.3.3 射频等离子体辅助CVD第23页
  2.3.4 直流等离子体辅助CVD第23页
  2.3.5 电子回旋加速谐振微波辅助CVD第23-24页
  2.3.6 燃烧火焰辅助CVD第24页
 2.4 小结第24-27页
第三章 CVD金刚石薄膜的表征方法第27-40页
 3.1 拉曼光谱第27-29页
 3.2 X射线衍射光谱第29-30页
 3.3 扫描电子显微镜照片第30-31页
 3.4 表面粗糙度测量第31-32页
 3.5 微观力学测量第32-34页
  3.5.1 微压痕实验第32-33页
  3.5.2 微划痕实验第33-34页
 3.6 原位测量方法第34-36页
  3.6.1 概述第34-35页
  3.6.2 原位激光反射多光束干涉第35-36页
 3.7 讨论第36-40页
第四章 CVD金刚石薄膜的实时生长研究第40-48页
 4.1 原位反射率的测量第40-41页
 4.2 金刚石薄膜生长表面的反射率数学物理模型第41-43页
 4.3 薄膜光学性质的确定第43页
 4.4 讨论第43-48页
  4.4.1 原位反射率和薄膜生长过程的关系第43-44页
  4.4.2 拟合数据的可靠性第44-46页
   4.4.2.1 关于表面粗糙度的假设第44-45页
   4.4.2.2 关于吸收系数的假定第45-46页
   4.4.2.3 关于拟合数据的可靠性实验验证第46页
  4.4.3 小结第46-48页
第五章 新一代无依托超薄金刚石X光窗口的研制第48-56页
 5.1 引言第48-50页
  5.1.1 研究的意义第48-49页
  5.1.2 国内外研制状况第49页
  5.1.3 研制的重点和难点第49-50页
 5.2 金刚石 X光窗口的制备第50-54页
  5.2.1 高质量的致密光学镜面级金刚石薄膜的制备第50-52页
  5.2.2 无依托超薄金刚石 X光窗口的制备第52页
  5.2.3 金刚石 X光窗口的拟合光学参数第52页
  5.2.4 金刚石 X光窗口的透射率测量第52-54页
 5.3 小结第54-56页
第六章 CVD纳米晶/微晶金刚石多层膜的研制第56-71页
 6.1 概述第56-61页
  6.1.1 纳米金刚石的优良性质第56-57页
  6.1.2 纳米金刚石的制备方法第57-58页
  6.1.3 纳米金刚石的表征方法研究第58-61页
   6.1.3.1 Raman光谱分析第58-59页
   6.1.3.2 XRD研究第59页
   6.1.3.3 SEM和AFM/α-step研究第59-61页
   6.1.3.4 光学透射性研究第61页
  6.1.4 纳米金刚石的应用第61页
 6.2 纳米晶/微晶金刚石多层膜的研制第61-68页
  6.2.1 纳米晶/微晶金刚石多层膜的研制背景第61-62页
  6.2.2 纳米晶/微晶金刚石多层膜的制备第62-63页
  6.2.3 纳米晶/微晶金刚石多层膜的表征第63-68页
   6.2.3.1 纳米晶/微晶金刚石多层膜的Raman光谱分析第63-65页
   6.2.3.2 纳米晶/微晶金刚石多层膜的XRD研究第65-66页
   6.2.3.3 纳米晶/微晶金刚石多层膜的SEM照片第66-67页
   6.2.3.4 纳米晶/微晶金刚石多层膜的光学透射性测量第67-68页
 6.3 小结第68-71页
第七章 总结第71-73页
全文参考文献一览第73-82页
己发表(包括已接受)的学术论文、会议报告和专利申请第82-83页
致谢第83-84页
论文独创性声明第84页
论文使用授权声明第84页

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