| 第一章 文献综述 | 第1-28页 |
| 1． 1． 引言 | 第9-10页 |
| 1． 2． NiO的性质 | 第10-19页 |
| 1． 2． 1． NiO晶体结构 | 第10-11页 |
| 1． 2． 2． NiO薄膜的光电性质 | 第11-12页 |
| 1． 2． 3． NiO薄膜的气敏性质 | 第12-13页 |
| 1． 2． 4． NiO薄膜的电致变色性能 | 第13-19页 |
| 1． 2． 4． 1 NiO薄膜材料的电致变色机理 | 第13-14页 |
| 1． 2． 4． 2 NiO电致变色的理论解释 | 第14页 |
| 1． 2． 4． 3 常见的电致变色材料 | 第14-16页 |
| 1． 2． 4． 4 电致变色器件的研究现状及其应用 | 第16页 |
| 1． 2． 4． 5 电致变色器件的应用及其发展前景 | 第16-19页 |
| 1． 1． 5． NiO变色薄膜的研究进展 | 第19页 |
| 1． 3． NiO薄膜制备技术简介 | 第19-28页 |
| 1． 3． 1 磁控溅射(Magnetron Sputtering) | 第19-20页 |
| 1． 3． 2 喷雾热解(Spray Pyrolysis) | 第20-21页 |
| 1． 3． 3 化学气相沉积(CVD) | 第21-24页 |
| 1． 3． 4 分子束外延(MBE)技术 | 第24-25页 |
| 1． 3． 5 原子层外延生长法(ALE) | 第25-26页 |
| 1． 3． 6 脉冲激光沉积(PLD) | 第26-27页 |
| 1． 3． 7 溶胶凝胶(Sol-gel) | 第27-28页 |
| 第二章 溶胶凝胶成膜原理与工艺 | 第28-35页 |
| 2． 1 溶胶凝胶制备薄膜的原理 | 第28-29页 |
| 2． 2 溶胶凝胶制备NiO及合金薄膜的工艺 | 第29-32页 |
| 2． 2．1 溶胶的制备 | 第30-31页 |
| 2． 2． 2 溶胶凝胶制备薄膜的方法 | 第31页 |
| 2． 2． 3 薄膜的热处理 | 第31-32页 |
| 2． 3 溶胶性质和工艺参数对薄膜的影响 | 第32-34页 |
| 2． 3． 1 溶胶性质对薄膜的影响 | 第32页 |
| 2． 3． 2 提拉速度对薄膜厚度的影响 | 第32-33页 |
| 2． 3． 3 热处理温度对薄膜性能的影响 | 第33-34页 |
| 2． 4 本章小节 | 第34-35页 |
| 第三章溶胶一凝胶提拉法制备氧化镍薄膜及性能表征 | 第35-46页 |
| 3． 1 引言 | 第35页 |
| 3． 2 实验过程 | 第35-37页 |
| 3． 2． 1． 实验设备 | 第35-36页 |
| 3． 2． 2． 实验原料 | 第36页 |
| 3． 2． 3． 实验主要步骤 | 第36-37页 |
| 3． 3 薄膜的性能测试 | 第37-45页 |
| 3． 3． 1 XRD测试 | 第37-42页 |
| 3． 3． 1． 1． XRD测试原理 | 第37-38页 |
| 3． 3． 1． 2． 热处理温度对NiO结晶性能的影响 | 第38-42页 |
| 3． 3． 2 UV-Vis测试 | 第42-45页 |
| 3． 3． 2． 1． UV-Vis测试原理 | 第42-43页 |
| 3． 3． 2． 2． 处理温度对NiO吸收谱的影响 | 第43-45页 |
| 3． 3． 2． 3． 晶粒大小与薄膜禁带宽度的关系 | 第45页 |
| 3． 4 本章小节 | 第45-46页 |
| 第四章 MgxNi1-xO合金薄膜日盲紫外探测器的制备与性能表征 | 第46-60页 |
| 4． 1 引言 | 第46页 |
| 4． 2 紫外探测器的原理 | 第46-47页 |
| 4． 3 常见的日盲紫外探测器 | 第47-48页 |
| 4． 4 实验过程 | 第48-50页 |
| 4． 4． 1． 实验设备 | 第48页 |
| 4． 4． 2． 实验原料 | 第48页 |
| 4． 4． 3． 实验主要步骤 | 第48-50页 |
| 4． 5 MgxNi1-xO合金薄膜的性能测试 | 第50-59页 |
| 4． 5． 1 MgO晶体结构 | 第50-51页 |
| 4． 5． 2 薄膜的成分分析 | 第51-59页 |
| 4． 5． 2． 1 XPS(X-ray photon spectrum)测试 | 第51-53页 |
| 4． 5． 2． 1． 1． XPS测试原理 | 第51页 |
| 4． 5． 2． 1． 2． XPS的元素的定性与定量分析 | 第51-52页 |
| 4． 5． 2． 1． 3． Mg03Ni07O薄膜的XPS测试结果 | 第52-53页 |
| 4． 5． 2． 2 XRD测试 | 第53-54页 |
| 4． 5． 2． 1． 1 热处理温度对MgxNi1-xO薄膜晶体结构的影响 | 第53-54页 |
| 4． 5． 2． 1． 2 不同Mg含量对薄膜结晶性能的影响 | 第54页 |
| 4． 5． 2． 3 UV-Vis测试 | 第54-57页 |
| 4． 5． 2． 3． 1 Mg含量对薄膜光学性能的影响 | 第54-56页 |
| 4． 5． 2． 3． 2 热处理温度对薄膜光学性质的影响 | 第56页 |
| 4． 5． 2． 3． 3 Mg含量对薄膜禁带宽度的影响 | 第56-57页 |
| 4． 5． 2． 4 光电响应特性测试 | 第57-59页 |
| 4． 5． 2． 4． 1． 原位器件的制备 | 第57-58页 |
| 4． 5． 2． 4． 2． 薄膜的光谱特性 | 第58-59页 |
| 4． 6 本章小节 | 第59-60页 |
| 第五章 CuxNi1-xO合金薄膜制备与性能表征 | 第60-66页 |
| 5． 1 引言 | 第60-61页 |
| 5． 2 实验过程 | 第61页 |
| 5． 2． 1 溶胶制备 | 第61页 |
| 5． 2． 2 衬底清洗 | 第61页 |
| 5． 2． 3 薄膜制备过程 | 第61页 |
| 5． 3 薄膜的性能测试 | 第61-65页 |
| 5． 3． 1 Cu含量的对薄膜的结晶性能的影响 | 第61-62页 |
| 5． 3． 2 Cu含量的对薄膜UV-Vis谱的影响 | 第62-63页 |
| 5． 3． 3 电致变色性能测试 | 第63-65页 |
| 5． 3． 3． 1 实验过程与设备 | 第63页 |
| 5． 3． 3． 2 Cu含量对薄膜电致变色性能的影响 | 第63-65页 |
| 5． 3． 3． 3 Cu0． 2Ni0． 8O薄膜的响应谱 | 第65页 |
| 5． 4 本章小节 | 第65-66页 |
| 第六章 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-75页 |
| 攻读硕士期间公开发表和已录用的学术论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
