| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-11页 |
| 第二章 研究背景及现状 | 第11-37页 |
| 2．1 研究背景 | 第11-13页 |
| 2．2 理论基础 | 第13-18页 |
| 2．2．1 低辐射镀膜玻璃节能原理 | 第13-14页 |
| 2．2．2 低辐射镀膜玻璃节能性能表征 | 第14-16页 |
| 2．2．3 低辐射镀膜玻璃功能特点 | 第16-18页 |
| 2．3 低辐射镀膜玻璃的研究背景 | 第18-24页 |
| 2．3．1 低辐射镀膜玻璃分类 | 第18-22页 |
| 2．3．2 国内外应用概况 | 第22-24页 |
| 2．4 低辐射镀膜玻璃制备技术 | 第24-31页 |
| 2．4．1 真空蒸镀法 | 第24页 |
| 2．4．2 溅射镀膜法 | 第24-26页 |
| 2．4．3 电浮法镀膜 | 第26页 |
| 2．4．4 溶胶-凝胶法 | 第26页 |
| 2．4．5 喷涂镀膜法 | 第26-28页 |
| 2．4．6 化学气相沉积法 | 第28-29页 |
| 2．4．7 在线CVD法镀膜技术 | 第29-31页 |
| 2．5 氮化钛薄膜的研究背景 | 第31-35页 |
| 2．5．1 氮化钛的结构 | 第31-33页 |
| 2．5．2 TiN薄膜的电学性质 | 第33页 |
| 2．5．3 TiN薄膜的光学性质 | 第33-34页 |
| 2．5．4 TiN薄膜的制备方法: PVD法和 CVD法 | 第34-35页 |
| 2．6 选题角度的确定 | 第35-37页 |
| 第三章 样品制备及测试 | 第37-45页 |
| 3．1 试样制备 | 第37-40页 |
| 3．1．1 装置 | 第37-38页 |
| 3．1．2 原料 | 第38-39页 |
| 3．1．3 薄膜样品制备过程 | 第39-40页 |
| 3．2 薄膜分析与测试方法 | 第40-45页 |
| 3．2．1 薄膜结构、成分和形貌分析 | 第40-43页 |
| 3．2．2 薄膜电学性能测试 | 第43页 |
| 3．2．3 薄膜光学性能测试 | 第43-44页 |
| 3．2．4 薄膜厚度测定 | 第44-45页 |
| 第四章 TiN薄膜的制备参数与结构和性能分析 | 第45-73页 |
| 4．1 本研究制备的最优TiN薄膜 | 第45-52页 |
| 4．1．1 TiN薄膜的结构和形貌分析 | 第45-48页 |
| 4．1．2 TiN薄膜成分分析 | 第48-49页 |
| 4．1．3 TiN薄膜的光谱特性分析 | 第49-50页 |
| 4．1．4 TiN薄膜禁带宽度的计算 | 第50-52页 |
| 4．1．5 TiN薄膜膜面颜色 | 第52页 |
| 4．2 制备参数对 TiN薄膜结构和光电性能的影响 | 第52-70页 |
| 4．2．1 基板温度对薄膜的结构和光电性能的影响 | 第52-61页 |
| 4．2．2 反应物浓度对薄膜结构和光电性能的影响 | 第61-64页 |
| 4．2．3 反应时间对薄膜结构和光电性能的影响 | 第64-70页 |
| 4．3 TiN薄膜的成膜机理 | 第70-71页 |
| 4．4 TiN薄膜作为低辐射膜的应用前景 | 第71-72页 |
| 4．5 小结 | 第72-73页 |
| 第五章 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |