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一般性问题
TiO2掺杂LaMnO3系NTC材料的研究
典型半导体材料的第一性原理研究
直流磁控反应溅射制备TiO2薄膜及氧敏特性研究
快中子辐照直拉硅的电学性能及辐照缺陷研究
生长Φ8“直拉硅单晶Φ8”热场研究及数值模拟
络合—聚合法制备LaFeO3半导体薄膜及其丙酮气体敏感性能研究
NiO基半导体光电薄膜的制备及性能研究
新型低辐射薄膜TiN的APCVD法制备及性能研究
化合物半导体负阻器件模拟、设计及其应用的研究
吩噻嗪、噁二唑半导体材料的制备及其发光性能的研究
SiC纳米晶薄膜的制备及发光性质
金刚石衬底上压电薄膜的制备研究
自支撑优质金刚石膜制备及红外透射特性研究
单晶硅片的超精密加工技术研究
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溶胶凝胶阳离子染料薄膜的制备及非线性光学性能研究
纳米TiO2催化剂的制备及用ECR氮等离子体对其改性的研究
ICP等离子体增强化学气相沉积制备纳米粉体氮化硅特性研究
ECR等离子体参数空间分布特性研究及制备GaN薄膜中的应用
半导体材料科学中的漂移扩散模型和流体动力学模型分析
半导体器件钝化层Si3N4薄膜的制备及特性研究
面向半导体封装的点胶系统建模、控制与实现
SiO2/SiC界面特性研究
新型PST铁电薄膜的制备及其性能研究
CdS-TiO2复合半导体薄膜的制备及其光催化性能的研究
液相沉积TiO2薄膜的制备，表征和光催化活性
微波等离子体低温CVD金刚石膜工艺和机理研究
介孔二氧化硅球形颗粒的制备与表征
SiO2及Sn:SiO2溶胶—凝胶波导材料的制备及其特性研究
金属有机物化学汽相外延法生长ZnO薄膜
Ⅱ-Ⅵ族纳米半导体的光学特性的研究
石英晶片厚度检测仪研究与设计
纳米ZnO的光学特性及其纳米涂层激光散射特性研究
HfO2高K栅介质的电学特性及其氮化效应研究
电化学腐蚀技术制备微通道列阵
Yb：YAG晶体生长及其性能研究
基于CPLD模拟系统总线的半导体分立器件测试系统开发
基于嵌入式技术的半导体分立器件测试系统的开发
电化学自组装金属氧化物及其复合结构和光电器件的研究
利用激光直写制作灰度掩模技术研究
GaN ECR-PEMOCVD生长表面RHEED图像研究
GaN/Al2O3（0001）大晶格失配异质结构的PAMOCVD外延生长
射频等离子体辅助分子束外延（rf-MBE）制备高质量ZnO薄膜研究
多孔硅镶嵌染料发光及电致发光特性研究
多孔氧化铝和低维纳米硅材料的光学特性研究
多孔硅微腔及其镶嵌有机发光材料的光学性质研究
掺铜多孔硅的光致发光及多孔硅的光电导特性研究
硅基磁控溅射Ga2O3/Al2O3膜氨化反应自组装法和热壁CVD法制备GaN薄膜的研究
纳米硅镶嵌结构与磁控溅射SiC膜的制备与荧光特性研究
低维半导体氧化物的制备、结构与性能研究
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