| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-31页 |
| 第一节 引言 | 第13-15页 |
| 第二节 硅基发光及其发光机理研究进展 | 第15-29页 |
| 第三节 本论文的选题依据与研究思路 | 第29-31页 |
| 第二章 实验过程 | 第31-35页 |
| 第一节 碳注入发光样品的制备 | 第31-33页 |
| 第二节 碳注入发光样品的表征 | 第33-34页 |
| 第三节 磁控溅射SiC发光膜的制备与表征 | 第34-35页 |
| 第三章 实验结果与讨论 | 第35-61页 |
| 第一节 氢退火注碳样品的荧光特性 | 第35-42页 |
| 第二节 氢退火注碳样品的发光机理 | 第42-51页 |
| 第三节 氮退火注碳样品的荧光特性 | 第51-59页 |
| 第四节 磁控溅射SiC膜荧光特性 | 第59-61页 |
| 第四章 结论 | 第61-64页 |
| 参考文献 | 第64-71页 |
| 作者在攻读硕士研究生期间所发表的论文目录 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73页 |