多孔氧化铝和低维纳米硅材料的光学特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-22页 |
| ·纳米材料简介 | 第8-12页 |
| ·模板法制备纳米结构 | 第12-13页 |
| ·低维纳米硅材料 | 第13-16页 |
| ·电子束蒸发镀膜设备工作原理 | 第16-18页 |
| ·本课题的主要研究内容和意义 | 第18-20页 |
| 参考文献 | 第20-22页 |
| 第二章 多孔氧化铝的电镜表征和透射光谱研究 | 第22-33页 |
| ·多孔氧化铝的理想结构形貌和形成机理 | 第22-24页 |
| ·多孔氧化铝的制备 | 第24-25页 |
| ·多孔氧化铝的表面和侧面SEM图像 | 第25-28页 |
| ·多孔氧化铝的透射光谱测试 | 第28-31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-33页 |
| 第三章 多孔硅和硅纳米颗粒的荧光光谱研究 | 第33-44页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·多孔硅和硅纳米颗粒的制备 | 第34-35页 |
| ·样品的荧光光谱和傅立叶变换红外吸收测量 | 第35-38页 |
| ·多孔硅和硅纳米颗粒的荧光光谱(PL)解释 | 第38-40页 |
| ·多孔氧化铝镶嵌纳米硅颗粒复合体系的光致荧光光谱 | 第40-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-44页 |
| 第四章 纳米硅薄膜光致荧光光谱的温度特性研究 | 第44-54页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·纳米硅薄膜的制备和测量 | 第44-50页 |
| ·纳米硅薄膜PL峰值与温度的关系 | 第50-51页 |
| ·纳米硅薄膜光致荧光光谱随温度变化的解释 | 第51-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
| 第五章 全文总结 | 第54-56页 |
| 发表文章目录 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
