当前位置:
首页
--
数理科学和化学
--
物理学
--
固体物理学
--
薄膜物理学
固相晶化法(SPC)制备多晶硅薄膜的研究
氮化碳薄膜的制备及其光学性质
PLD法在Si衬底上取向生长Ba0.5Sr0.5TiO3/La0.5Sr0.5CoO3薄膜的研究
ITO玻璃衬底上PLZT铁电薄膜的制备与性能研究
面心立方合金薄膜有序无序相变和相图研究
PECVD法制备a-C:F:N薄膜的结构和稳定性研究
MOCVD方法在GaAs衬底上生长ZnO薄膜
不同阳极支撑体上钐掺杂氧化铈电解质膜的制备与性能
金纳米薄膜的制备及吸收光谱分析
铁电薄膜性质的理论研究
磁增强弧光等离子体CVD法沉积c-BN薄膜及其场发射特性
大面积金刚石厚膜的制备
硼碳氮薄膜的制备及其光透过性质研究
矩形单元阵列的形状各向异性及磁化强度的非均匀性和非均匀激发的研究
多晶及单晶(超)薄膜铁磁共振线宽研究
介质薄膜膜基体系力学光学特性研究
高质量氧化锌薄膜和低维结构的制备及研究
Z-扫描表征技术与分散黄-7薄膜的光学非线性研究
X射线宽带多层膜的设计方法及制备工艺研究
反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜的结构和性能研究
梯度铁电薄膜的热力学性质研究
脉冲激光沉积Pb0.5Sr0.5TiO3薄膜和(Pb,Sr)TiO3/(Pb,La)TiO3多层膜的介电性能及弛豫现象
SiCOH低κ薄膜的ECR等离子体制备及F掺杂效应研究
外延BaxSr1-xTiO3薄膜热力学性质的研究
脉冲激光法制备高介电系数铁电薄膜和多层膜
集流体材料铜薄膜中锂离子输运机制的第一性原理研究
中频孪生磁控溅射等离子体特性与氧化物薄膜沉积研究
膜-基界面的结构表征及能量计算
脉冲激光沉积硅基发光薄膜及其特性研究
脉冲激光沉积法制备CMR薄膜及其特性研究
纳米晶氮化碳薄膜制备的研究
三明治结构薄膜巨磁阻抗效应的电磁理论研究
碲铌氧化物玻璃与花菁染料薄膜的光学特性研究
铁磁/反铁磁双层膜中矫顽力及磁性多层膜中垂直磁各向异性的研究
超薄薄膜各向异性生长的KMC模拟
液相基底表面磁性薄膜的形成机理和物理特性研究
液相基底表面具有排斥相互作用的非平衡原子团簇系统及其连续薄膜透声特性研究
基于纳米压痕仪的薄膜力学性能纳米测试与表征研究
两种新型钛合金氧化膜的表面分析
适用于非制冷红外探测器的氧化钒薄膜制备及电学性质研究
Co/BaTiO3纳米复合薄膜及Fe-Al金属间化合物薄膜的PLD法制备及其结构研究
聚乙烯醇材料阻气性能研究
内胀环形圆管膜大变形研究
高精度数字式光学膜厚监控系统的研制
红外连续波激光辐照下光学薄膜元件的热吸收特性研究
基于光脉冲辅助的金属诱导横向晶化多晶硅薄膜的研究
光学薄膜常数计算方法与测量系统的研究
SnO2薄膜的PECVD法制备及其在CdTe电池中的应用研究
TFT栅绝缘层用氮化硅薄膜的研究
压电薄膜ZnO、SBN的溅射法制备及其性能的研究
上一页
[34]
[35]
[36]
[37]
[38]
下一页