| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 1 绪论 | 第8-18页 |
| 1．1 选题意义 | 第8页 |
| 1．2 磁控溅射简介 | 第8-13页 |
| 1．2．1 溅射工作原理的简单回顾 | 第8-10页 |
| 1．2．2 磁控溅射沉积的特点 | 第10-13页 |
| 1．2．3 磁控溅射的应用 | 第13页 |
| 1．3 MgO、Al_2O_3薄膜沉积发展现状、应用 | 第13-17页 |
| 1．3．1 MgO、Al_2O_3薄膜的应用 | 第13-15页 |
| 1．3．2 MgO、Al_2O_3薄膜的制备方法 | 第15-17页 |
| 1．4 本文的研究内容 | 第17-18页 |
| 2 中频孪生磁控溅射系统及检测分析 | 第18-22页 |
| 2．1 中频孪生磁控溅射系统简介 | 第18-20页 |
| 2．2 实验工艺 | 第20页 |
| 2．3 膜厚检测设备 | 第20-21页 |
| 2．4 光致发光检测设备 | 第21-22页 |
| 3 薄膜制备过程中的现象、分析 | 第22-33页 |
| 3．1 Towsend放电曲线、辉光放电 | 第22-25页 |
| 3．2 制备Mg、MgO时的放电曲线 | 第25-31页 |
| 3．2．1 Mg、MgO的Ⅴ-Ⅰ曲线 | 第25-27页 |
| 3．2．2 曲线的分析 | 第27-29页 |
| 3．2．3 对出现此放电曲线的假设 | 第29-31页 |
| 3．3 结论 | 第31-33页 |
| 4 影响MgO薄膜沉积速率的因素 | 第33-40页 |
| 4．1 气体成份对靶的起辉气压的影响 | 第33-34页 |
| 4．2 MgO薄膜的XRD检测结果 | 第34-35页 |
| 4．3 MgO薄膜沉积速率与参数的关系 | 第35-40页 |
| 5 参数对掺铒Al_2O_3薄膜发光性能的影响 | 第40-49页 |
| 5．1 薄膜退火前后结构比较 | 第40-41页 |
| 5．2 制备结果中出现的多层膜结构 | 第41-42页 |
| 5．3 不同参数对发光性能的影响 | 第42-49页 |
| 6 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 在读期间发表的论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |