介质薄膜膜基体系力学光学特性研究
| 第一章 概述 | 第1-18页 |
| ·薄膜研究概述 | 第11-12页 |
| ·介质薄膜在光通信中的应用 | 第12-14页 |
| ·介质薄膜滤光片型 WDM 器件 | 第12-14页 |
| ·薄膜应力研究回顾 | 第14-16页 |
| ·本文的主要工作 | 第16-18页 |
| 第二章 薄膜形成和薄膜结构 | 第18-34页 |
| ·薄膜生长过程概述 | 第18-19页 |
| ·薄膜的形核理论 | 第19-26页 |
| ·形核过程 | 第19-20页 |
| ·沉积原子的寿命 | 第20页 |
| ·形核理论与临界岛尺寸 | 第20-22页 |
| ·连续薄膜形成 | 第22-23页 |
| ·动力学稳定性分析――应力对岛的影响 | 第23-26页 |
| ·薄膜应力模型 | 第26-30页 |
| ·薄膜张应力模型 | 第26-27页 |
| ·压缩应力形成模型 | 第27-30页 |
| ·薄膜中的应力计算 | 第30-31页 |
| ·薄膜结构的光学特性计算 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-34页 |
| 第三章 应力对薄膜光谱特性的影响 | 第34-84页 |
| ·应力对多层薄膜滤光片光谱特性的影响 | 第34-43页 |
| ·多层结构的应力和形变分析 | 第34-39页 |
| ·薄膜应力对多层滤光片薄膜光谱特性影响的宏观分析 | 第39-43页 |
| ·薄膜应力使薄膜厚度不均匀变化的实验研究 | 第43-48页 |
| ·样品制备 | 第43-44页 |
| ·实验研究和结果 | 第44-48页 |
| ·应力使基片弯曲对光谱的影响 | 第48-58页 |
| ·应力产生入射角偏差和对光谱影响的理论分析 | 第48-53页 |
| ·小片样品透镜效应的耦合问题 | 第53-56页 |
| ·实验研究 | 第56-58页 |
| ·薄膜应力作用下基片中应力分布 | 第58-62页 |
| ·薄膜应力作用下大基片的应力分布 | 第59-60页 |
| ·小基片的应力分布 | 第60-62页 |
| ·薄膜应力对基片作用的有限元法计算 | 第62-72页 |
| ·变分原理 | 第62-69页 |
| ·有限单元法 | 第69-72页 |
| ·薄膜应力的光弹效应及其对薄膜光谱的影响 | 第72-82页 |
| ·外力作用下的双折射 | 第72-75页 |
| ·应力双折射在正交平面偏振光场中的光学效应 | 第75-76页 |
| ·应力双折射的实验研究 | 第76-79页 |
| ·考虑应力双折射后的耦合模拟 | 第79-82页 |
| ·以上应力效应对薄膜窄带滤光片光谱影响的分析 | 第82页 |
| ·本章小结 | 第82-84页 |
| 第四章 光学薄膜热处理研究 | 第84-99页 |
| ·热处理对薄膜应力的影响 | 第84-87页 |
| ·薄膜应力对薄膜光学厚度的影响 | 第84-86页 |
| ·实验结果与分析 | 第86-87页 |
| ·热处理对单层 Ta_2O_5薄膜的影响 | 第87-93页 |
| ·样品制备 | 第87-88页 |
| ·光学测量及其结果 | 第88-93页 |
| ·热处理对窄带滤光片的影响分析 | 第93-98页 |
| ·本章小结 | 第98-99页 |
| 第五章 改善或提高光谱性能的方法讨论 | 第99-102页 |
| ·对工艺参数的控制来减小薄膜应力 | 第99-100页 |
| ·改善薄膜特性的后处理方法 | 第100-101页 |
| ·本章小结 | 第101-102页 |
| 第六章 薄膜应力测量的研究 | 第102-111页 |
| ·薄膜应力的测量方法分析 | 第102-103页 |
| ·激光宏观变形分析法 | 第102-103页 |
| ·测量方法 | 第103-106页 |
| ·激光干涉法 | 第103-104页 |
| ·激光束偏转法 | 第104-106页 |
| ·X 射线分析法 | 第106-110页 |
| ·X 射线分析法的平面应力弹性模型 | 第106-108页 |
| ·X 射线测量应力的方法 | 第108-110页 |
| ·本章小结 | 第110-111页 |
| 第七章 总结与展望 | 第111-114页 |
| ·对全文的总结 | 第111-112页 |
| ·本文创新点 | 第112-113页 |
| ·进一步的工作展望 | 第113-114页 |
| 致 谢 | 第114-115页 |
| 在攻读博士期间发表的论文目录 | 第115-116页 |
| 个人简历 | 第116-117页 |
| 参考文献 | 第117-124页 |
| 博士学位论文原创性声明 | 第124页 |
