反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜的结构和性能研究
| 第一章 氟化类金刚石薄膜的研究概况 | 第1-19页 |
| ·氟化类金刚石薄膜的研究意义 | 第11-15页 |
| ·类金刚石薄膜 | 第11-15页 |
| ·氟化类金刚石薄膜 | 第15页 |
| ·低k 材料和氟化类金刚石薄膜的研究进展 | 第15-17页 |
| ·我们研究小组的研究基础 | 第17-18页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 射频反应磁控溅射技术 | 第19-40页 |
| ·溅射现象 | 第19-20页 |
| ·射频溅射技术 | 第20-21页 |
| ·溅射原理 | 第21-22页 |
| ·射频磁控溅射技术 | 第22-25页 |
| ·射频反应磁控溅射技术 | 第25-27页 |
| ·射频反应磁控溅射装置 | 第27-28页 |
| ·基片及其预处理 | 第28-29页 |
| ·射频反应磁控溅射等离子体的特点 | 第29-40页 |
| ·辉光放电 | 第29-34页 |
| ·射频反应磁控溅射等离子体的特点 | 第34-38页 |
| ·影响薄膜沉积的有关参数 | 第38-40页 |
| 第三章 薄膜的结构及性能表征 | 第40-64页 |
| ·膜厚的测量 | 第40页 |
| ·纳米压痕硬度及弹性模量表征 | 第40-44页 |
| ·拉曼光谱 | 第44-48页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第48-49页 |
| ·傅立叶变换红外吸收光谱 | 第49-54页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第54-58页 |
| ·紫外及可见光谱 | 第58-62页 |
| ·薄膜电学特性的测量 | 第62-63页 |
| ·X 射线衍射 | 第63-64页 |
| 第四章 不同工艺条件下制备的薄膜结构的演变 | 第64-100页 |
| ·氟化类金刚石薄膜的沉积速率 | 第64-67页 |
| ·射频输入功率的影响 | 第64-65页 |
| ·沉积气压的影响 | 第65-66页 |
| ·源气体流量比的影响 | 第66-67页 |
| ·氟化类金刚石薄膜的硬度及弹性模量表征 | 第67-70页 |
| ·源气体流量比的影响 | 第67-68页 |
| ·射频输入功率的影响 | 第68-69页 |
| ·沉积气压的影响 | 第69-70页 |
| ·氟化类金刚石薄膜的拉曼光谱研究 | 第70-76页 |
| ·沉积气压的影响 | 第71-72页 |
| ·射频输入功率的影响 | 第72-74页 |
| ·射频输入功率的影响 | 第74-76页 |
| ·氟化类金刚石薄膜的红外光谱研究 | 第76-82页 |
| ·射频输入功率的影响 | 第76-78页 |
| ·源气体流量比的影响 | 第78-81页 |
| ·沉积气压的影响 | 第81-82页 |
| ·氟化类金刚石薄膜的XPS 光谱研究 | 第82-91页 |
| ·源气体流量比的影响 | 第82-87页 |
| ·射频输入功率和沉积气压的影响 | 第87-91页 |
| ·氟化类金刚石薄膜的紫外--可见光光谱研究 | 第91-97页 |
| ·沉积气压的影响 | 第91-92页 |
| ·射频输入功率的影响 | 第92-93页 |
| ·射频输入功率的影响 | 第93-97页 |
| ·氟化类金刚石薄膜的介电常数 | 第97-98页 |
| ·氟化类金刚石薄膜的热稳定性研究 | 第98-100页 |
| 第五章 结论 | 第100-103页 |
| 参考文献 | 第103-110页 |
| 博士论文期间发表的文章列表 | 第110-111页 |
| 本论文创新性说明 | 第111-112页 |
| 致谢 | 第112-113页 |
| 详细摘要 | 第113-122页 |
