| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 引言 | 第8-9页 |
| 第一章 氮化碳结构、基本性质及主要制备方法 | 第9-25页 |
| 第一节 薄膜材料简介 | 第9页 |
| 第二节 氮化碳薄膜的基本结构与特性 | 第9-18页 |
| 一 氮化碳的晶体结构 | 第10-12页 |
| 二 氮化碳的能带结构 | 第12-15页 |
| 三 氮化碳的超硬特性与抗磨损特性 | 第15-17页 |
| 四 氮化碳薄膜的电学性质 | 第17页 |
| 五 氮化碳薄膜的电子场发射性质 | 第17-18页 |
| 第三节 氮化碳薄膜的各种制备方法 | 第18-24页 |
| 一 反应溅射法制备CN_x膜 | 第18-20页 |
| 二 化学气相沉积(CVD)制备CN_x膜 | 第20-23页 |
| 三 离子注入法 | 第23页 |
| 四 脉冲激光沉积反应法 | 第23-24页 |
| 第四节 本章小结 | 第24-25页 |
| 第二章 氮化碳(CN_x)薄膜的磁控溅射制备及表征 | 第25-38页 |
| 第一节 磁控溅射 | 第25-29页 |
| 一 磁控溅射的基本原理 | 第25-26页 |
| 二 磁控溅射镀膜 | 第26-29页 |
| 第二节 不同含氮量氮化碳薄膜的制备 | 第29-31页 |
| 一 实验装置 | 第29-30页 |
| 二 实验工艺与分析方法 | 第30-31页 |
| 第三节 氮化碳薄膜表面形态 AFM分析 | 第31-33页 |
| 第四节 氮化碳薄膜的热稳定性分析 | 第33-35页 |
| 第五节 氮化碳薄膜的XRD与XPS分析 | 第35-38页 |
| 一 X射线光电子能谱(XPS)分析原理 | 第35-36页 |
| 二 氮化碳薄膜的XPS分析 | 第36-38页 |
| 第三章 氮化碳薄膜的光学性质研究 | 第38-42页 |
| 第一节 氮化碳薄膜的拉曼光谱分析 | 第38-40页 |
| 第二节 氮化碳薄膜的光学透射率及光学带隙分析 | 第40-42页 |
| 总结 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-48页 |
| 致谢 | 第48页 |