第一章 绪论 | 第1-18页 |
·金刚石的晶体结构 | 第7-8页 |
·金刚石薄膜的优异性能及应用 | 第8-11页 |
·化学气相沉积法的产生背景及其发展 | 第11-14页 |
·金刚石膜化学气相沉积方法 | 第14-16页 |
·论文的选题和主要内容 | 第16-18页 |
第二章 实验设备及表征方法概述 | 第18-25页 |
·EA-CVD 金刚石膜沉积系统简介 | 第18-20页 |
·EA-CVD 方法制备金刚石膜的基本工艺 | 第20-21页 |
·金刚石膜的常用表征方法 | 第21-25页 |
第三章 大面积金刚石厚膜的制备及生长特性研究 | 第25-42页 |
·引言 | 第25-26页 |
·灯丝的选择 | 第26-27页 |
·金刚石膜的形核 | 第27-29页 |
·金刚石膜的生长 | 第29-32页 |
·金刚石膜的生长特性 | 第32-35页 |
·金刚石膜均匀性的研究 | 第35页 |
·金刚石膜中微裂纹的控制 | 第35-37页 |
·大面积高品质低成本金刚石膜沉积参数选择 | 第37-41页 |
·本章小结 | 第41-42页 |
第四章 氮掺杂对金刚石膜生长的影响研究 | 第42-65页 |
·引言 | 第42-43页 |
·氮气流量对金刚石膜生长速率、表面形貌及品质的影响 | 第43-51页 |
·氮气流量对金刚石膜生长速率的影响 | 第43-46页 |
·氮气流量对金刚石膜表面形貌的影响 | 第46-49页 |
·氮气流量对金刚石膜品质的影响 | 第49-51页 |
·金刚石膜中氮杂质状态研究 | 第51-59页 |
·金刚石膜的EPR 谱分析 | 第51-57页 |
·金刚石膜的Raman 光谱分析 | 第57-58页 |
·氮掺杂金刚石膜的XPS 谱分析 | 第58-59页 |
·金刚石膜应力的研究 | 第59-62页 |
·金刚石膜应力的研究方法 | 第59-61页 |
·金刚石膜的宏观应变随氮气流量的变化 | 第61-62页 |
·本章小结 | 第62-65页 |
第五章 总结 | 第65-68页 |
参考文献 | 第68-77页 |
摘要 | 第77-80页 |
Abstract | 第80-85页 |