| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·低介电常数材料的研究背景 | 第10-13页 |
| ·SiCOH薄膜研究现状 | 第13-17页 |
| ·本文的研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 SiCOH薄膜的制备及表征方法 | 第18-31页 |
| ·SiCOH 薄膜的制备方法 | 第18-21页 |
| ·微波电子回旋共振等离子体(ECR)原理简介 | 第18-19页 |
| ·ECR等离子体沉积薄膜方法与实验装置 | 第19-20页 |
| ·实验参数 | 第20-21页 |
| ·SiCOH薄膜性能与结构的表征方法 | 第21-27页 |
| ·SiCOH薄膜的介电与电学性能的表征 | 第21-22页 |
| ·SiCOH薄膜结构与成份的表征 | 第22-27页 |
| (1) 傅立叶变换红外光谱原理简介 | 第22-25页 |
| (2) XPS分析原理简介 | 第25-27页 |
| ·D5 ECR放电等离子体特性分析 | 第27-31页 |
| ·ECR放电等离子体的发射光谱诊断原理与方法 | 第27-30页 |
| ·特征谱线与基团识别 | 第30-31页 |
| 第三章 SiCOH薄膜的介电、电学性能与键结构分析 | 第31-38页 |
| ·SiCOH薄膜的介电性能与电绝缘性能 | 第31-32页 |
| ·SiCOH薄膜的热稳定性 | 第32页 |
| ·SiCOH薄膜的键结构分析 | 第32-35页 |
| ·D5的ECR放电等离子体特性与薄膜的键结构的关联 | 第35-38页 |
| 第四章 F掺杂对SiCOH薄膜的结构与性能的影响 | 第38-45页 |
| ·F掺杂对SiCOH薄膜结构和成分的影响 | 第38-42页 |
| ·F掺杂对SiCOH薄膜沉积速率的影响 | 第42-43页 |
| ·F掺杂对SiCOH薄膜的介电性能的影响 | 第43-45页 |
| 第五章 结论 | 第45-47页 |
| ·本文的主要结果 | 第45-46页 |
| ·存在的主要问题与进一步的研究方向 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-51页 |
| 附录: 攻读学位期间公开发表的论文 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52页 |