| 第一章 引言 | 第1-19页 |
| 1．1 课题意义 | 第8-11页 |
| 1．1．1 非致冷红外焦平面阵列技术介绍 | 第8-9页 |
| 1．1．2 氧化钒薄膜在非致冷红外探测器中的应用 | 第9-10页 |
| 1．1．3 几种钒的氧化物其他应用前景 | 第10-11页 |
| 1．2 国内外对氧化钒的研究情况 | 第11-13页 |
| 1．3 氧化钒几种镀膜方法介绍与比较 | 第13-18页 |
| 1．3．1 几种镀膜方法的介绍 | 第13-16页 |
| 1．3．1．1 真空蒸发镀膜 | 第13-14页 |
| 1．3．1．2 溅射镀膜 | 第14页 |
| 1．3．1．3 离子镀 | 第14-15页 |
| 1．3．1．4 化学气相沉积 | 第15页 |
| 1．3．1．5 溶胶一凝胶技术 | 第15-16页 |
| 1．3．2 氧化钒镀膜工艺比较 | 第16-18页 |
| 1．4 本论文的研究内容及主要研究结果 | 第18-19页 |
| 第二章 氧化钒的晶体结构与性质介绍 | 第19-35页 |
| 2．1 V-O化合物体系 | 第19-20页 |
| 2．2 氧化钒薄膜的晶体结构和性质 | 第20-29页 |
| 2．2．1 V_2O_5薄膜 | 第21-22页 |
| 2．2．2 二氧化钒薄膜 | 第22-27页 |
| 2．2．2．1 VO_(2(A))型薄膜 | 第22-24页 |
| 2．2．2．2 VO_2相变机理的研究现状 | 第24-26页 |
| 2．2．2．3 VO_(2(B))型薄膜 | 第26-27页 |
| 2．2．3 V_2O_3薄膜 | 第27-29页 |
| 2．3 氧化钒热敏材料的物相表征方法 | 第29-35页 |
| 2．3．1 X射线衍射谱以RD) | 第29-30页 |
| 2．3．2 X射线光电子能谱(XPS) | 第30-31页 |
| 2．3．3 椭圆偏光解析法 | 第31-33页 |
| 2．3．4 原子力显微镜(AFM) | 第33-35页 |
| 第三章 氧化钒薄膜制备工艺 | 第35-51页 |
| 3．1 氧化钒薄膜制备工艺流程 | 第35页 |
| 3．2 基片的清洗 | 第35-37页 |
| 3．3 真空蒸制备 V_2O_5薄膜 | 第37-40页 |
| 3．3．1 真空蒸发过程中对薄膜厚度的控制 | 第37-38页 |
| 3．3．2 蒸发的衬底温度影响 | 第38-40页 |
| 3．4 真空还原制备 VO_(2(b))薄膜、VO_2薄膜、V_2O_3薄膜薄膜 | 第40-51页 |
| 3．4．1 真空还原系统介绍 | 第40-41页 |
| 3．4．2 真空退火石英管清洁 | 第41页 |
| 3．4．3 VO_2(B)薄膜的制备 | 第41-44页 |
| 3．4．4 不同衬底材料的影响 | 第44-46页 |
| 3．4．5 VO_2薄膜的制备 | 第46-49页 |
| 3．4．6 V_2O_3薄膜的制备 | 第49-51页 |
| 第四章 氧化钒薄膜电学性质研究 | 第51-58页 |
| 4．1 实验设备 | 第51页 |
| 4．2 VO_(2(B))型薄膜的测试结果 | 第51-54页 |
| 4．3 VO_(2(A))型薄膜在高温端的测试结果 | 第54-56页 |
| 4．4 VO_(2(A))型薄膜与VO_(2(B))型薄膜的比较 | 第56-57页 |
| 4．5 高低温疲劳实验 | 第57-58页 |
| 第五章 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第63-64页 |
| 声明 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
