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脉冲激光沉积法制备CMR薄膜及其特性研究

摘要(中、英文)第1-8页
第一章:引言第8-12页
   ·研究背景及意义第8-10页
   ·本文研究的内容第10-12页
第二章:PLD技术和CMR锰氧化物第12-37页
   ·PLD技术第12-17页
     ·PLD原理第12-15页
     ·PLD的特点第15-16页
     ·PLD的最新研究方向第16-17页
   ·影响PLD沉积的因素第17-21页
     ·激光能量密度第18-19页
     ·衬底温度第19页
     ·气压第19-20页
     ·靶距第20-21页
   ·钙钛矿锰氧化物的CMR效应第21-22页
   ·钙钛矿锰氧化物的结构第22-28页
     ·晶体结构第22-23页
     ·磁结构第23-25页
     ·电子结构第25-27页
     ·导电性能第27-28页
   ·钙钛矿锰氧化物CMR效应的物理机制第28-31页
     ·双交换作用机制第28-29页
     ·Jahn-Teller畸变第29-30页
     ·极化子理论第30-31页
   ·低场磁电阻效应(LFMR)的物理机制-自旋极化隧穿和散射(SPT and SPS)第31-33页
   ·影响CMR效应的几个因素第33-36页
     ·氧含量对CMR效应的影响第33页
     ·衬底温度对CMR效应的影响第33-35页
     ·A位离子替代对CMR效应的影响第35-36页
     ·外磁场对CMR效应的影响第36页
 本章小结及论文工作要点第36-37页
第三章:PLD沉积过程中靶材温度场的模拟第37-61页
   ·引言第37-38页
   ·热传导理论基础第38-40页
   ·计算模型的建立第40-43页
     ·热源分析第40-41页
     ·靶材温度场的数值分析第41-43页
   ·金属的熔化、蒸发与汽化第43-46页
     ·金属的熔化第43-44页
     ·真空蒸发过程第44-45页
     ·金属的蒸发第45页
     ·金属汽化损耗第45-46页
   ·电离、激发损耗第46-48页
     ·等效温度的计算第47页
     ·靶材表面温度场的分布第47-48页
   ·结果分析与讨论第48-57页
     ·表面温度与烧蚀深度的分析第48-52页
     ·蒸发速率的讨论第52-54页
     ·功率密度对温度场的影响第54-55页
     ·靶材表面不同位置、不同时间温度变化规律第55-57页
 本章小结及论文工作要点第57-58页
 附录一:计算中所需要的物理参数第58-59页
 附录二:计算程序流程图第59-61页
第四章:PLD沉积钙钛矿CMR系列薄膜第61-78页
   ·CMR块状晶体的制备第61-63页
     ·La_(1/3) (Ca_(2/3) Sr_(1/3) )_(2/3) MnO_3块材的制备第61-62页
     ·La_(0.9) Zr_(0.1) MnO_3块材的制备第62-63页
   ·PLD制备CMR薄膜第63-65页
     ·衬底的选取第63-64页
     ·薄膜的制备过程第64-65页
   ·La_(1/3) (Ca_(2/3) Sr_(1/3) )_(2/3) MnO_3块材和薄膜的结构分析第65-69页
     ·La_(1/3) (Ca_(2/3) Sr_(1/3) )_(2/3) MnO_3晶体粉末XRD分析第65-67页
       ·物相分析第65-66页
       ·晶格常数的计算第66-67页
     ·La_(1/3) (Ca_(2/3) Sr_(1/3) )_(2/3) MnO_3薄膜特性第67-69页
       ·薄膜的XRD分析第67-68页
       ·薄膜的表面形貌分析第68页
       ·薄膜的红外透射谱分析第68-69页
   ·薄膜的电阻-温度特性第69-74页
     ·低温控温系统第69-70页
     ·La_(1/3) (Ca_(2/3) Sr_(1/3) )_(2/3) MO_3薄膜的电阻-温度特性第70-72页
     ·La_(1/3) (Ca_(2/3) Sr_(1/3) )_(2/3) MnO_3薄膜磁电阻效应第72-73页
     ·A位离子半径对材料电输运特性的影响第73-74页
   ·La_(0.9) Zr_(0.1) MnO_3块材的电阻-温度特性第74-75页
   ·La_(1/3) (Ca_(2/3) Sr_(1/3) )_(2/3) MnO_3薄膜光电特性第75-77页
 本章小结第77-78页
第五章结论与展望第78-80页
参考文献第80-86页
硕士期间发表的文章第86-87页
致谢第87-88页

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