| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·图形薄膜的研究现状 | 第11页 |
| ·基本概念 | 第11-21页 |
| ·磁畴 | 第12页 |
| ·交换作用 | 第12-14页 |
| ·磁各向异性 | 第14-15页 |
| ·静磁相互作用 | 第15-18页 |
| ·自旋波 | 第18-21页 |
| ·本论文的工作 | 第21-22页 |
| 参考文献 | 第22-24页 |
| 第二章 基本实验方法及测试原理 | 第24-34页 |
| ·薄膜的制备 | 第24-27页 |
| ·直流磁控溅射法 | 第24-25页 |
| ·射频溅射法 | 第25-26页 |
| ·图形磁性结构物质的制备 | 第26-27页 |
| ·结构表征与物性测量 | 第27-33页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第27页 |
| ·铁磁共振和自旋波共振（FMR 及SWR） | 第27-29页 |
| ·干涉显微镜 | 第29-31页 |
| ·振动样品磁强计（VSM） | 第31-33页 |
| 参考文献 | 第33-34页 |
| 第三章 矩形阵列图形坡莫合金薄膜的制备及磁各向异性的研究 | 第34-51页 |
| ·前言 | 第34-35页 |
| ·矩形阵列图形坡莫合金薄膜的制备和表征 | 第35-38页 |
| ·连续薄膜的制备 | 第35页 |
| ·刻蚀样品的制备 | 第35-36页 |
| ·图形薄膜样品的形貌 | 第36-38页 |
| ·图形薄膜的磁滞回线的测量 | 第38-40页 |
| ·矩形阵列图形薄膜铁磁共振研究 | 第40-48页 |
| ·铁磁共振实验测量结果 | 第40-41页 |
| ·对铁磁共振实验数据的理论拟合 | 第41-46页 |
| ·拟合结果 | 第46-48页 |
| 本章总结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 第四章 矩形单元退磁场的计算 | 第51-62页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·退磁场计算的理论模型 | 第51-54页 |
| ·单个单元的退磁场 | 第54-59页 |
| ·单元间退磁场的相互影响 | 第59-61页 |
| 本章总结 | 第61页 |
| 参考文献 | 第61-62页 |
| 第五章 坡莫合金薄膜的自旋波激发 | 第62-84页 |
| ·前言 | 第62页 |
| ·样品 | 第62-63页 |
| ·连续膜自旋波激发测量结果 | 第63-65页 |
| ·拟合实验数据的有关理论 | 第65-71页 |
| ·表面非均匀模型（SI） | 第65-69页 |
| ·表面钉扎模型（SP） | 第69-71页 |
| ·拟合结果 | 第71-78页 |
| ·矩形单元阵列薄膜的非一致激发的测量结果 | 第78-80页 |
| ·图形薄膜铁磁共振测量结果的分析 | 第80-82页 |
| 本章总结 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-84页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |