纳米晶氮化碳薄膜制备的研究
| 引言 | 第1-14页 |
| 第一章 低温等离子体在薄膜制备中的应用 | 第14-23页 |
| 第一节 等离子体概述 | 第14-18页 |
| ·等离子体的定义及其基本特点 | 第14-15页 |
| ·等离子体的分类 | 第15页 |
| ·低温等离子体沉积技术及其应用 | 第15-18页 |
| 第二节 发射光谱在等离子体诊断中的应用 | 第18-23页 |
| ·发射光谱诊断的特点 | 第18-19页 |
| ·超大气压范围的氦等离子体发射光谱分析 | 第19-23页 |
| 第二章 实验设计 | 第23-30页 |
| 第一节 弧光放电法实验装置及实验步骤 | 第23-24页 |
| 第二节 直流空心阴极放电法 | 第24-28页 |
| ·放电原理 | 第24-27页 |
| ·实验装置 | 第27-28页 |
| 第三节 样品的制备 | 第28-30页 |
| ·基片的选择与清洗 | 第28页 |
| ·放电电压、气压以及处理时间的改变 | 第28-29页 |
| ·有无偏压以及偏压大小的改变 | 第29-30页 |
| 第三章 测试及分析 | 第30-62页 |
| 第一节 弧光放电法实验结果与分析 | 第30-35页 |
| ·等离子体的发射光谱 | 第30-31页 |
| ·扫描电镜和薄膜干涉图 | 第31-32页 |
| ·拉曼、红外光谱分析 | 第32-34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| 第二节 直流HCD法放电过程的研究 | 第35-50页 |
| ·放电现象 | 第35页 |
| ·伏安特性曲线 | 第35-37页 |
| ·压强对放电电流电压的影响 | 第37-39页 |
| ·等离子体发射光谱诊断结果 | 第39-42页 |
| ·光谱法诊断电子温度 | 第42-47页 |
| ·单探针法诊断电子、离子浓度 | 第47-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第三节 直流HCD法所制备薄膜的形态结构测试 | 第50-62页 |
| ·扫描电镜(SEM)测试 | 第50-52页 |
| ·X光电子能谱(XPS)测试 | 第52-57页 |
| ·X射线衍射谱(XRD)测试 | 第57-59页 |
| ·红外和拉曼光谱测试 | 第59-61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| 第四章 总结与结论 | 第62-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
