磁增强弧光等离子体CVD法沉积c-BN薄膜及其场发射特性

第一章 绪论	第1-34页
·氮化硼的结构与性质	第7-11页
·立方氮化硼的制备方法与研究进展	第11-20页
·立方氮化硼薄膜的表征	第20-24页
·场发射研究进展	第24-33页
·论文选题和主要研究内容	第33-34页
第二章 c-BN 薄膜的制备及物相鉴定	第34-40页
·立方氮化硼的薄膜制备	第34-36页
·立方氮化硼薄膜的物相鉴定	第36-38页
·本章小结	第38-40页
第三章 沉积参数对c-BN薄膜形成的影响	第40-50页
·基底负偏压对c-BN 薄膜形成的影响	第40-43页
·弧光等离子体放电电流对c-BN 薄膜形成的影响	第43-45页
·气体流量比对c-BN 薄膜形成的影响	第45-47页
·沉积时间对c-BN 薄膜形成的影响	第47-48页
·本章小结	第48-50页
第四章 沉积参数对c-BN薄膜场发射特性的影响	第50-85页
·场发射理论	第50-59页
·场发射测试系统	第59-62页
·场发射结果与讨论	第62-83页
·立方氮化硼薄膜场发射机理	第83-84页
·本章小结	第84-85页
结论	第85-88页
参考文献	第88-100页
致谢	第100-101页
导师简介	第101-102页
附中英文摘要	第102-109页