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铁磁/反铁磁双层膜中矫顽力及磁性多层膜中垂直磁各向异性的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-8页
第一章 绪论第8-22页
 §1.1 磁记录存储的历史及未来展望第8-12页
 §1.2 硬盘存储技术原理第12-20页
     ·磁记录原理第12-13页
     ·交换偏置第13-16页
     ·磁记录介质材料第16-20页
 §1.3 小结第20页
 参考文献:第20-22页
第二章 薄膜的制备及其性质表征第22-36页
 §2.1 薄膜的制备第22-25页
     ·溅射技术第22-23页
     ·实验设备第23-25页
 §2.2 膜厚的测量第25页
 §2.3 结构的表征第25-28页
     ·X射线衍射(XRD)简介第25-26页
     ·高分辨透射电镜(HRTEM)第26-28页
 §2.4 磁学性质的测量第28-33页
     ·铁磁共振(FMR)第28-30页
     ·振动样品磁强计(VSM)第30-33页
     ·磁力显微镜(MFM)第33页
 §2.5 成分的测定第33-34页
     ·X射线荧光光谱分析(XFS)第33-34页
     ·电子能量损失谱(EELS)第34页
 §2.6 小结第34-35页
 参考文献:第35-36页
第三章 铁磁/反铁磁双层膜中铁磁层的微结构对矫顽力和磁化翻转的影响第36-50页
 §3.1 背景介绍第36-37页
 §3.2 实验第37-38页
 §3.3 结果与分析第38-47页
     ·结构分析第38-40页
     ·磁性测量的结果分析第40-47页
 §3.4 小结第47-48页
 参考文献:第48-50页
第四章 TbFeCo/NiO多层膜的垂直磁各向异性研究第50-57页
 §4.1 背景介绍第50-51页
 §4.2 实验第51-52页
 §4.3 结果与分析第52-56页
     ·结构分析第52-53页
     ·磁性测量的结果分析第53-56页
 §4.4 小结第56页
 参考文献:第56-57页
第五章 高矫顽力Co/Pt多层膜的制备第57-72页
 §5.1 背景介绍第57-58页
 §5.2 实验第58-59页
 §5.3 结果与分析第59-69页
     ·结构分析第61-66页
     ·磁性测量结果分析第66-69页
 §5.4 小结第69-70页
 参考文献:第70-72页
致谢(一)第72-73页
致谢(二)第73-74页
论文独创性声明第74页

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