X射线宽带多层膜的设计方法及制备工艺研究
| 第一章 绪论 | 第1-12页 |
| ·X 射线多层膜的发展概况 | 第7-9页 |
| ·X 射线宽带多层膜的应用 | 第9-10页 |
| ·X 射线天文望远镜 | 第9-10页 |
| ·同步辐射 | 第10页 |
| ·课题研究背景 | 第10-12页 |
| 第二章 X 射线多层膜的理论基础 | 第12-29页 |
| ·光学常数 | 第12-16页 |
| ·多层膜反射理论 | 第16-24页 |
| ·X 射线在理想界面的反射 | 第16-17页 |
| ·X 射线在非理想界面的反射 | 第17-23页 |
| ·多层膜的反射率 | 第23-24页 |
| ·多层膜材料的选择 | 第24-28页 |
| ·材料选择的标准 | 第25-26页 |
| ·X 射线宽带多层膜材料的选择 | 第26-28页 |
| ·基片选择 | 第28-29页 |
| 第三章 X 射线宽带多层膜的设计 | 第29-50页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·常见的设计方法 | 第29-33页 |
| ·基于经验的半经典设计方法 | 第29-30页 |
| ·分堆栈法 | 第30页 |
| ·分析方法 | 第30-33页 |
| ·遗传算法优化设计X 射线宽带多层膜 | 第33-50页 |
| ·遗传算法 | 第33-39页 |
| ·遗传算法优化设计X 射线宽带多层膜 | 第39-50页 |
| 第四章 X 射线宽带多层膜的制备 | 第50-62页 |
| ·溅射原理 | 第50-51页 |
| ·磁控溅射法 | 第51-52页 |
| ·磁控溅射镀膜设备简介 | 第52-53页 |
| ·镀膜沉积速率定标 | 第53-57页 |
| ·原子力台阶定标法 | 第53-54页 |
| ·X 射线衍射仪定标法 | 第54-57页 |
| ·X 射线宽带多层膜的制备 | 第57-62页 |
| ·工艺参数的选择 | 第57-58页 |
| ·X 射线宽带多层膜制备实验 | 第58-62页 |
| 第五章 X 射线宽带多层膜特性的检测 | 第62-67页 |
| ·X 射线衍射仪检测多层膜 | 第62-64页 |
| ·X 射线衍射仪检测多层膜结构的原理 | 第62-63页 |
| ·测量条件 | 第63-64页 |
| ·样品检测结果 | 第64-67页 |
| 第六章 全文总结 | 第67-69页 |
| ·论文主要内容 | 第67页 |
| ·研究成果 | 第67-68页 |
| ·进一步工作展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 作者简历 | 第74-75页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
