| 第一章 引言 | 第1-9页 |
| ·国内外研究动态 | 第6-7页 |
| ·本论文选题的背景和意义 | 第7-8页 |
| ·本论文所研究的内容 | 第8-9页 |
| 第二章 金属纳米薄膜的制备原理 | 第9-29页 |
| ·物理气相沉积法 | 第9-18页 |
| ·化学气相沉积法 | 第18-20页 |
| ·金属电沉积过程的基本原理 | 第20-29页 |
| 第三章 吸收光谱原理 | 第29-39页 |
| ·吸收光谱的来源 | 第29-30页 |
| ·吸收强度 | 第30-32页 |
| ·吸收光谱的表示法 | 第32-33页 |
| ·重叠的吸收带 | 第33页 |
| ·测定吸收光谱的注意事项 | 第33-39页 |
| 第四章 金纳米薄膜的制备及吸收光谱分析 | 第39-65页 |
| ·实验设备及材料 | 第39-41页 |
| ·样品制备的实验步骤 | 第41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-64页 |
| ·结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 摘要 | 第68-70页 |
| Abstract | 第70-73页 |
| 致谢 | 第73页 |