| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| 1．1 引言 | 第8-11页 |
| 1．2 a-C:F薄膜研究现状及存在问题 | 第11-18页 |
| 1．3 本论文的选题意义和主要工作 | 第18-19页 |
| 第二章 薄膜的制备及结构、性能检测 | 第19-28页 |
| 2．1 引言 | 第19页 |
| 2．2 PECVD实验装置及实验过程 | 第19-23页 |
| 2．2．1 实验装置 | 第19-21页 |
| 2．2．2 实验过程 | 第21-23页 |
| 2．3 薄膜表面形貌分析 | 第23页 |
| 2．3．1 薄膜的原子力显微镜(AFM)分析 | 第23页 |
| 2．4 薄膜组分及化学键结构分析 | 第23-27页 |
| 2．4．1 傅立叶变换红外吸收光谱(FTIR)分析 | 第23-24页 |
| 2．4．2 拉曼(Raman)分析 | 第24页 |
| 2．4．3 紫外-可见光谱(UV-VIS)分析 | 第24-25页 |
| 2．4．4 椭偏仪测试 | 第25-27页 |
| 2．5 本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 a-C:F:N薄膜结构和稳定性分析 | 第28-45页 |
| 3．1 a-C:F薄膜的表面形貌和红外分析 | 第28-31页 |
| 3．2 a-C:F:N薄膜表面形貌 | 第31-34页 |
| 3．2．1 沉积温度对薄膜表面形貌的影响 | 第32页 |
| 3．2．2 退火温度对薄膜表面形貌的影响 | 第32-33页 |
| 3．2．3 源气体流量比对薄膜表面形貌的影响 | 第33-34页 |
| 3．3 a-C:F:N薄膜沉积速率 | 第34-36页 |
| 3．3．1 沉积温度对薄膜沉积速率的影响 | 第34页 |
| 3．3．2 源气体流量比对薄膜沉积速率的影响 | 第34-36页 |
| 3．4 退火后薄膜厚度的变化 | 第36-37页 |
| 3．5 a-C:F:N薄膜的FTIR分析 | 第37-40页 |
| 3．5．1 掺氮前后a-C:F:N薄膜红外结构的变化 | 第38-39页 |
| 3．5．2 流量比对a-C:F:N薄膜红外结构的影响 | 第39页 |
| 3．5．3 退火对a-C:F:N薄膜红外结构的影响 | 第39-40页 |
| 3．6 薄膜的Raman分析 | 第40-44页 |
| 3．7 本章小节 | 第44-45页 |
| 第四章 a-C:F:N薄膜的光学带隙分析 | 第45-53页 |
| 4．1 引言 | 第45-48页 |
| 4．2 a-C:F:N薄膜的光学带隙 | 第48-51页 |
| 4．2．1 沉积温度对光学带隙的影响 | 第49-50页 |
| 4．2．2 流量比对光学带隙的影响 | 第50-51页 |
| 4．3 掺氮前后a-C:F:N薄膜透射谱的变化 | 第51页 |
| 4．4 光学带隙与热稳定性的关系 | 第51-52页 |
| 4．5 本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 主要结论及有待进一步完成的工作 | 第53-54页 |
| 5．1 本论文的主要结论 | 第53页 |
| 5．2 有待进一步完成的工作 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第62页 |
