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GaAs材料光电压谱特性分析
压电陶瓷用于半导体桥点火的研究
石墨微结构磁电效应及甚小电阻信号读取
硫系相变型半导体存储材料的制备与表征
室温下工作的非易失性分子级存储单元的操作设计与分子动力学模拟
多元半导体及其合金的第一性原理计算研究
光刻工艺中的焦距异常发生原因分析及解决办法
p型Cu1-xNixO透明氧化物半导体薄膜的制备及性能分析
导纳谱应用于测量半导体中浅能级的研究
辅助图形在工艺窗口OPC模型中的应用以及广义OPC的概念
基于亚波长光栅的纳米压印模板工艺及光学仿真研究
锗硅外延工艺的调试和优化
65nm金属沟槽刻蚀工艺研发
散射测量技术在纳米级晶圆复杂轮廓上的优势测量
对晶圆钴淀积预处理中光阻吸附问题的研究
65nm高性能工艺流程之低温选择性锗硅外延技术的研究
TiO2基氧化物半导体磁性的实验研究
失效分析在半导体制造中的原理及应用
对光刻工艺中在光阻底部增加抗反射涂层(BARC)的研究
多晶硅刻蚀特性的研究
光刻工艺中对线宽和套刻系统性控制的开发
0.35微米BiCMOS光刻工艺参数的优化
LEC砷化镓单晶生长技术
真空高阻区熔硅单晶生长技术的研究
锗抛光片抛光清洗技术研究
碳化硅单晶微管道缺陷研究
VB-GaAs单晶片抛光技术研究
HVPE法制备GaN同质衬底
宽禁带SiC材料中杂质的分析研究
LED用砷化镓抛光片表面状态研究
SiC中V含量的二次离子质谱分析研究
PVT法生长SiC单晶中V掺杂行为研究
自动化快速测试方案的研究和应用
掺杂SnO2的电子结构、光学与磁学性质的第一性原理计算
Co,Cu掺杂ZnO稀磁半导体粉末的结构及磁性研究
深紫外光照射延缓光罩结晶生长的研究
用于二次电子发射阴极材料的金刚石薄膜的制备及性能研究
波样耗散结构的空间构造及形成过程
掺氮SiC薄膜制备及其光学特性的研究
磁控溅射法制备氮掺杂ZnO薄膜及其光学特性研究
与Si相容的自旋电子学材料的研究:磁性半导体
掺杂金红石相TiO2的第一性原理计算
0.11μm DRAM技术中深沟壑底部光阻残余物去除工艺的改善研究
浅沟道隔离层小球状缺陷的改善研究
分栅型闪存中浮栅氮化物硬掩膜层蚀刻工艺的优化
刻蚀腔环境对电介质刻蚀混合制程的影响研究
通孔刻蚀的检测技术研究
300mm半导体工厂AMHS系统的分析、设计和控制策略的仿真研究
LPCVD氮化硅炉管生产工艺中颗粒污染的研究
高性能有机电致发光材料的制备及器件研究
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