| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·ZnO的基本性质简介 | 第9-11页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第9-10页 |
| ·ZnO的基本物理参数 | 第10-11页 |
| ·ZnO薄膜掺杂 | 第11-13页 |
| ·ZnO带隙调整掺杂 | 第11-12页 |
| ·ZnO薄膜n型低阻掺杂 | 第12页 |
| ·ZnO薄膜p型掺杂 | 第12-13页 |
| ·ZnO的广泛应用 | 第13-14页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第14-15页 |
| 第一章参考文献 | 第15-18页 |
| 第二章 氮掺杂ZnO薄膜的制备和表征 | 第18-28页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜材料的原理及工艺 | 第18-21页 |
| ·磁控溅射原理 | 第18-20页 |
| ·JGP560型超高真空多功能磁控溅射系统简述 | 第20-21页 |
| ·样品制备过程 | 第21-23页 |
| ·靶材的制备 | 第21-22页 |
| ·溅射成膜基本工艺过程 | 第22-23页 |
| ·薄膜表征 | 第23-26页 |
| ·X射线衍射原理 | 第23-25页 |
| ·原子力显微镜(AFM)原理简介 | 第25页 |
| ·薄膜光学特性的测量 | 第25-26页 |
| 第二章参考文献 | 第26-28页 |
| 第三章 氮掺杂ZnO薄膜的光学性质 | 第28-34页 |
| ·ZnO:N薄膜材料的透射谱 | 第28-29页 |
| ·ZnO薄膜的光致发光谱 | 第29-31页 |
| ·氮掺杂的ZnO薄膜室温光致发光谱 | 第31-32页 |
| 第三章参考文献 | 第32-34页 |
| 第四章 磁控溅射各参数对ZnO:N薄膜结构和光学性质影响的研究 | 第34-63页 |
| ·衬底温度对氮掺杂的氧化锌薄膜结构和发光性能的影响 | 第34-39页 |
| ·衬底温度对ZnO:N薄膜结构特性的影响 | 第35-36页 |
| ·衬底温度对ZnO:N薄膜透过率的影响 | 第36-37页 |
| ·衬底温度对ZnO:N薄膜室温光致发光的影响 | 第37-39页 |
| ·小结 | 第39页 |
| ·氩氮比对ZnO:N薄膜结构和发光性能的影响 | 第39-43页 |
| ·不同氩氮流量比对ZnO:N薄膜结构的影响 | 第40-41页 |
| ·不同氩氮比对ZnO:N薄膜透过率的影响 | 第41-42页 |
| ·不同氮氩流量比对ZnO:N薄膜室温光致发光的影响 | 第42-43页 |
| ·本节小结 | 第43页 |
| ·工作气压对ZnO和ZnO:N薄膜结构和发光性能的影响 | 第43-51页 |
| ·不同溅射气压下ZnO和ZnO:N薄膜厚度对比 | 第44-45页 |
| ·不同溅射气压对ZnO和ZnO:N薄膜形貌的影响 | 第45-48页 |
| ·不同溅射气压对ZnO:N薄膜透过率的影响 | 第48-49页 |
| ·不同溅射气压对ZnO:N薄膜结构的影响 | 第49-50页 |
| ·不同溅射气压对ZnO:N薄膜室温光致发光的影响 | 第50-51页 |
| ·本节小结 | 第51页 |
| ·不同退火条件对ZnO:N薄膜的影响 | 第51-55页 |
| ·不同退火条件对ZnO:N薄膜结构的影响 | 第52-53页 |
| ·不同退火条件对ZnO:N薄膜透过率的影响 | 第53-54页 |
| ·不同退火条件对ZnO:N薄膜室温发光特性的影响 | 第54页 |
| ·本节小结 | 第54-55页 |
| ·溅射气体中补充一定量的氧气后,ZnO和ZnO:N薄膜的性质比较 | 第55-60页 |
| ·补充一定量的氧气,ZnO和ZnO:N薄膜的结构特性 | 第56-58页 |
| ·补充一定量的氧气,ZnO和ZnO:N薄膜的透过率 | 第58-59页 |
| ·补充一定量的氧气,ZnO和ZnO:N薄膜的室温光致发光特性 | 第59-60页 |
| ·本节小结 | 第60页 |
| ·本章总结 | 第60-61页 |
| 第四章参考文献 | 第61-63页 |
| 结论及展望 | 第63-66页 |
| 主要结论 | 第63-65页 |
| 后续工作及展望 | 第65-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表的文章 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
