| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-17页 |
| ·课题背景与研究意义 | 第7-12页 |
| ·国外研究状况 | 第12-14页 |
| ·本课题研究内容 | 第14-15页 |
| ·实验设备 | 第15-17页 |
| 第二章 散射测量原理 | 第17-24页 |
| ·膜厚测量原理 | 第17-19页 |
| ·散射测量原理 | 第19-24页 |
| 第三章 散射测量建模与应用 | 第24-38页 |
| ·多晶硅栅极轮廓测量 | 第24-30页 |
| ·90纳米工艺栅极ONO spacer测量 | 第30-34页 |
| ·浮栅工艺片内浮栅厚度测量 | 第34-38页 |
| 第四章 整合散射测量与APC | 第38-43页 |
| ·整合测量与APC | 第38-40页 |
| ·蚀刻APC应用 | 第40-43页 |
| 第五章 结论与后续研究 | 第43-46页 |
| ·结论 | 第43-44页 |
| ·后续研究 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-48页 |
| 附录 | 第48-49页 |