当前位置：
首页
--
工业技术
--
一般工业技术
--
工业通用技术与设备
--
薄膜技术
有机无机复合抗静电薄膜合成、结构表征及应用特性研究
等离子体CVD法制备a-Si1-xCx：H薄膜及其微结构和性能研究
溶胶凝胶法制备银—钛酸铅复合薄膜及其电学性能的研究
新型陶瓷分离膜制备科学基础和性能研究
新型非对称荷正电膜的制备与表征
动态LBL法制备聚离子渗透汽化膜过程的研究
手性拆分膜的制备及性能研究
（Ti，Cr）N薄膜的多弧离子镀工艺、显微结构及力学性能研究
氮化铬薄膜制备及其摩擦学性能研究
银表面制备铋系高温超导膜
全反射相关的X射线荧光分析技术及其应用
基于有机改性sol-gel技术的铅离子光化学传感膜的研制
聚醚酰亚胺多孔支撑膜的涂覆与富氧性能研究
非金属薄膜生产线计算机测控系统研究
基于无机陶瓷膜在高温烟气除尘方面的应用
中频反应磁控溅射制备氮化锆薄膜及颜色制备工艺参数研究
磁控溅射TiO2复合薄膜的光催化及杀菌特性
YBCO元素替代以及表面修饰的透氧性能研究
钛及其合金微弧氧化膜的制备表征及特性研究
分步自组装法构筑功能化多层超薄膜
不同清洗方法对金基底及其自组装膜表面性质影响的研究
利用双层薄膜的去润湿制备微透镜以及双层薄膜反转去润湿的基础研究
直流热阴极PCVD法制备金刚石膜电源的研究
多金属氧酸盐/layer-by-layer复合纳米结构多层膜的构筑与表征
绝缘金属基板表面绝缘薄膜的制备和介电性能研究
基于智能夹层的结构健康监测系统研究及软件设计
酚醛树脂基混合基质炭分子筛膜的制备及应用
非平衡磁控溅射沉积系统放电特性和沉积TiN_x薄膜应用研究
高k-ZrO2基薄膜生长行为及其稳定性的研究
单晶MgO基片抛光工艺的实验研究
α-纤维素基中空纤维炭膜的制备与结构表征
矩形平面靶磁场分析及薄膜厚度模拟
真空感应CVI/CVD过程控制系统开发
偏压热丝化学气相沉积金刚石膜及其复合膜的研究
磁控溅射参数对含铬类石墨碳膜沉积速率、组织与性能影响的研究
钇钡铜氧感光凝胶薄膜的制备及性能研究
钛酸锶钡铁电薄膜的制备及微细加工
直流磁控溅射TiNiCu薄膜的制备与组织性能研究
氧化锡系低辐射薄膜玻璃的制备及性能研究
BixSb2-xSe3薄膜的SILAR法制备及表征
蓝宝石衬底上中波红外增透保护膜系的设计、制备及性能
p型ZnO薄膜的制备及掺杂机理研究
热丝化学气相沉积制备超薄纳米金刚石膜研究
激光与聚合物的相互作用（Ⅲ）银选择性活化化学镀在聚酰亚胺薄膜上制作精细线路
铁电薄膜电容分布的扫描探针显微镜研究
双轴织构Ni-W基带上反应溅射沉积氧化物种子层薄膜
低Co硬质合金上制备CVD金刚石薄膜的研究
γ-Al2O3纳滤膜分离性能试验研究
ABO3型薄膜生长特性的计算机模拟与实验验证
PC树脂镜片沉积DLC薄膜耐磨性及附着性的研究
上一页
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
下一页
