| 摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-11页 |
| 第二章 文献综述 | 第11-29页 |
| ·金刚石薄膜的结构、优异性能和应用 | 第11-16页 |
| ·金刚石的结构 | 第11页 |
| ·金刚石性质及应用领域 | 第11-16页 |
| ·金刚石薄膜沉积工艺及成膜生长 | 第16-23页 |
| ·化学气相沉积法的基本原理 | 第16-20页 |
| ·常见的化学气相沉积制备方法 | 第20-23页 |
| ·热丝化学气相沉积(HFCVD) | 第21-22页 |
| ·微波等离子体法(MWCVD) | 第22页 |
| ·等离子体炬化学气相沉积 | 第22-23页 |
| ·氧乙炔炬化学气相沉积 | 第23页 |
| ·研究金刚石薄膜的国内外发展状况 | 第23-28页 |
| ·增强金刚石形核的研究进展 | 第23-26页 |
| ·化学气相沉积金刚石薄膜及其复合膜的研究进展 | 第26-28页 |
| ·本课题的目的与意义 | 第28-29页 |
| 第三章 偏压热丝化学气相沉积金刚石薄膜的设备 | 第29-35页 |
| ·实验装置及实验用品 | 第29-31页 |
| ·实验设备 | 第29-30页 |
| ·实验用品 | 第30-31页 |
| ·实验过程 | 第31-32页 |
| ·灯丝预处理 | 第31页 |
| ·基体预处理 | 第31-32页 |
| ·实验步骤操作规程 | 第32页 |
| ·金刚石膜及其复合膜的表征方法 | 第32-35页 |
| ·金相显微镜 | 第33页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第33页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第33页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第33页 |
| ·能量分散谱仪(EDS) | 第33-35页 |
| 第四章 正偏压HFCVD金刚石薄膜形核和生长的研究 | 第35-53页 |
| ·引言 | 第35-36页 |
| ·正偏压HFCVD金刚石形核样品的制备及表征 | 第36页 |
| ·实验条件 | 第36页 |
| ·测试手段 | 第36页 |
| ·实验结果与讨论 | 第36-52页 |
| ·偏压对沉积金刚石膜的影响 | 第36-39页 |
| ·建立等离子体--热丝化学气相沉积金刚石薄膜法 | 第39-44页 |
| ·甲烷含量对沉积金刚石膜的影响 | 第44-47页 |
| ·甲烷含量对沉积金刚石膜沉积速率的影响 | 第44-46页 |
| ·甲烷含量对沉积金刚石膜质量的影响 | 第46-47页 |
| ·金刚石薄膜的二次形核 | 第47-48页 |
| ·碳源对沉积金刚石膜的影响 | 第48-50页 |
| ·金刚石薄膜形成的研究 | 第50-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 第五章 偏压HFCVD金刚石/碳化钛复合膜的研究 | 第53-65页 |
| ·引言 | 第53-54页 |
| ·正偏压HFCVD金刚石/碳化钛复合膜的制备及表征 | 第54-56页 |
| ·实验用品 | 第54页 |
| ·实验装置及流程 | 第54-56页 |
| ·实验装置 | 第54-55页 |
| ·实验流程 | 第55-56页 |
| ·测试手段 | 第56页 |
| ·实验结果与讨论 | 第56-63页 |
| ·金刚石/碳化钛复合膜的SEM分析 | 第56-58页 |
| ·金刚石/碳化钛复合膜的EDS分析 | 第58-59页 |
| ·金刚石/碳化钛复合膜的XRD分析 | 第59-60页 |
| ·载气对金刚石/碳化钛复合膜的影响 | 第60-61页 |
| ·偏压对金刚石/碳化钛复合膜的影响 | 第61-62页 |
| ·灯丝预处理对金刚石/碳化钛复合膜的影响 | 第62-63页 |
| ·基体温度对金刚石/碳化钛复合膜的影响 | 第63页 |
| ·小结 | 第63-65页 |
| 第六章 论文总结 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第75-76页 |
| 独创性声明 | 第76页 |
| 关于论文使用授权的说明 | 第76页 |