利用双层薄膜的去润湿制备微透镜以及双层薄膜反转去润湿的基础研究
| 提要 | 第1-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-42页 |
| 第一节 引言 | 第8-9页 |
| 第二节 去润湿现象 | 第9-20页 |
| 一、 聚合物薄膜的去润湿现象 | 第9-10页 |
| 二、 聚合物薄膜去润湿的机理 | 第10-12页 |
| 三、 聚合物薄膜去润湿行为的影响因素 | 第12-20页 |
| 第三节 微透镜阵列 | 第20-26页 |
| 一、 微透镜阵列的加工 | 第21-23页 |
| 二、 微透镜阵列的商业应用 | 第23-26页 |
| 第四节 微结构加工方法 | 第26-35页 |
| 一、 传统微加工技术----光刻技术[59] | 第27-28页 |
| 二、 先进刻蚀技术 | 第28-29页 |
| 三、 软刻蚀技术 | 第29-35页 |
| 第五节 双层薄膜的去润湿 | 第35-39页 |
| 第六节 本课题选题的意义和思路 | 第39-42页 |
| 第二章 微透镜阵列的加工 | 第42-74页 |
| 第一节 材料和仪器 | 第42-43页 |
| 一、实验材料 | 第42-43页 |
| 二、表征仪器 | 第43页 |
| 第二节 实验方法 | 第43-48页 |
| 一、模板的加工 | 第43-46页 |
| 二、聚合物薄膜样品的制备 | 第46-47页 |
| 三、薄膜的去润湿及其形态表征 | 第47-48页 |
| 第三节 P4VP薄膜的图案化 | 第48-51页 |
| 第四节 PS薄膜对基底的改性 | 第51-53页 |
| 第五节 P4VP薄膜的有序去润湿 | 第53-56页 |
| 一、有序去润湿和无序去润湿 | 第53-55页 |
| 二、有序序去润湿过程 | 第55-56页 |
| 第六节 有序去润湿所得结构的形貌分析 | 第56-69页 |
| 一、去润湿所得液滴的形貌分析 | 第56-60页 |
| 二、主液滴和卫星液滴的分布 | 第60-64页 |
| 三、有序去润湿得到的其它结构 | 第64-69页 |
| 第七节 有序聚合物液滴作为微透镜阵列 | 第69-72页 |
| 第八节 本章小结 | 第72-74页 |
| 第三章 双层薄膜的反转去润湿 | 第74-88页 |
| 第一节 材料和仪器 | 第74-75页 |
| 一、实验材料 | 第74页 |
| 二、表征仪器 | 第74-75页 |
| 第二节 实验方法 | 第75-76页 |
| 一、硅基底的制备 | 第75页 |
| 二、聚合物薄膜样品的制备 | 第75-76页 |
| 第三节 结果与讨论 | 第76-86页 |
| 一、双层薄膜的去润湿过程 | 第76-81页 |
| 二、双层薄膜的去润湿的机理 | 第81-82页 |
| 三、分子量对双层薄膜体系去润湿过程的影响 | 第82-84页 |
| 四、薄膜厚度对P4VP/PS双层薄膜去润湿的影响 | 第84-86页 |
| 第四节 本章小节 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-97页 |
| 摘要 | 第97-100页 |
| Abstract | 第100-103页 |
| 致 谢 | 第103页 |
