| 第一章 绪论 | 第1-24页 |
| ·研究背景 | 第11-21页 |
| ·本课题的来源及研究内容 | 第21-24页 |
| 第二章 金属铝基板表面绝缘氧化薄膜的制备新工艺 | 第24-27页 |
| ·实验用原材料和设备 | 第24页 |
| ·阳极氧化工艺 | 第24-26页 |
| ·微弧氧化工艺 | 第26-27页 |
| 第三章 氧化物绝缘薄膜微观结构及介电性能 | 第27-37页 |
| ·绝缘薄膜的微观形貌 | 第27-29页 |
| ·绝缘薄膜的物相组成 | 第29-31页 |
| ·绝缘薄膜的绝缘性能测试 | 第31-32页 |
| ·绝缘薄膜的介电性能测试 | 第32-37页 |
| 第四章 氮化铝绝缘薄膜的制备工艺研究 | 第37-41页 |
| ·靶材和基片的选取 | 第37页 |
| ·氮化铝绝缘薄膜的制备方法和制备工艺 | 第37-41页 |
| 第五章 氮化铝绝缘薄膜的微观结构及介电性能 | 第41-66页 |
| ·铝基板表面沉积AlN薄膜的物象结构及择优取向生长 | 第41-44页 |
| ·氮化铝绝缘薄膜的微观形貌 | 第44-49页 |
| ·氮化铝绝缘薄膜的介电常数 | 第49-58页 |
| ·氮化铝绝缘薄膜的介质损耗 | 第58-66页 |
| 第六章 全文结论和后续工作有待解决的问题 | 第66-69页 |
| ·全文结论 | 第66-68页 |
| ·后续工作有待解决的问题 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第75页 |