| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-14页 |
| 第一章 前言 | 第14-38页 |
| ·激光与聚合物材料的相互作用 | 第14-16页 |
| ·激光诱导金属沉积 | 第16-28页 |
| ·激光诱导化学气相沉积（LCVD） | 第18页 |
| ·激光诱导向前迁移（LIFT） | 第18-20页 |
| ·激光诱导固体金属化合物膜分解沉积 | 第20-21页 |
| ·激光诱导液相沉积（LCLD） | 第21-23页 |
| ·激光诱导化学镀 | 第23-28页 |
| ·化学镀的基本原理 | 第23-26页 |
| ·激光诱导化学镀 | 第26-28页 |
| ·本课题的研究目的和研究内容 | 第28-30页 |
| 参考文献 | 第30-38页 |
| 第二章 激光改性和银氨溶液中活化用于图形化化学镀的研究 | 第38-62页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·实验部分 | 第39-42页 |
| ·聚酰亚胺薄膜 | 第39页 |
| ·实验试剂 | 第39-40页 |
| ·激光辐射方法 | 第40页 |
| ·银氨溶液的配制 | 第40-41页 |
| ·化学镀液的配制 | 第41页 |
| ·聚酰亚胺薄膜表面选择性沉积铜的方法 | 第41-42页 |
| ·表征技术 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-58页 |
| ·聚酰亚胺表面激光选择性光刻沟槽 | 第42-43页 |
| ·聚酰亚胺表面光刻区域银的沉积 | 第43-46页 |
| ·PI薄膜表面的XPS分析 | 第46-48页 |
| ·薄膜表面的选择性化学镀铜 | 第48-58页 |
| ·不同阶段化学镀铜的微观形貌变化 | 第48-50页 |
| ·镀层的EDS分析 | 第50-51页 |
| ·清洗对镀铜图形选择性的影响 | 第51-53页 |
| ·激光通量对化学镀铜形貌的影响 | 第53-56页 |
| ·镀铜的图形 | 第56页 |
| ·化学镀铜的导电性 | 第56-57页 |
| ·镀层与基材PI的粘附性 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 第三章 激光诱导原位沉积银及其用于图形化化学镀的研究 | 第62-87页 |
| ·引言 | 第62-63页 |
| ·实验部分 | 第63-66页 |
| ·聚酰亚胺薄膜 | 第63页 |
| ·实验试剂 | 第63页 |
| ·激光辐射方法 | 第63页 |
| ·聚酰亚胺薄膜表面选择性沉积铜的方法 | 第63-65页 |
| ·表征技术 | 第65-66页 |
| ·结果与讨论 | 第66-82页 |
| ·PI表面改性前后的化学、物理变化 | 第66-73页 |
| ·薄膜表面水解前后的ATR－FTIR分析 | 第66-67页 |
| ·薄膜表面离子交换前后的EDS分析 | 第67-68页 |
| ·激光辐射前后的XPS分析 | 第68-71页 |
| ·薄膜表面的AFM和平衡接触角分析 | 第71-73页 |
| ·激光光刻银粒子的物理性质 | 第73-75页 |
| ·激光光刻银粒子与聚酰亚胺的粘附性 | 第73-74页 |
| ·激光光刻银粒子的I-V特性研究 | 第74-75页 |
| ·选择性化学镀 | 第75-82页 |
| ·镀层的形貌和粘附性 | 第75页 |
| ·激光通量对镀层形貌的影响 | 第75-77页 |
| ·激光扫描速度的影响 | 第77-79页 |
| ·激光扫描速度和镀线连贯性关系的数学模型 | 第79-82页 |
| ·镀线的I-V特性 | 第82页 |
| ·本章小结 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-87页 |
| 第四章 PI/Ag~+薄膜上用其他方法进行图形化化学镀的研究 | 第87-105页 |
| ·自组装单分子层膜用于激光诱导金属图形化沉积的研究 | 第87-95页 |
| ·引言 | 第87-88页 |
| ·实验部分 | 第88-90页 |
| ·实验试剂 | 第88-89页 |
| ·图形化化学镀铜的方法 | 第89-90页 |
| ·表征技术 | 第90页 |
| ·结果与讨论 | 第90-95页 |
| ·热处理后聚酰亚胺表面银的XPS分析 | 第90-91页 |
| ·聚酰亚胺表面的AFM和接触角分析 | 第91-92页 |
| ·薄膜表面的ATR－FTIR光谱分析 | 第92-93页 |
| ·薄膜表面的激光选择性活化机理分析 | 第93-94页 |
| ·薄膜表面选择性化学镀铜 | 第94-95页 |
| ·激光打印掩模法用于图形化化学镀的研究 | 第95-100页 |
| ·引言 | 第95-97页 |
| ·实验部分 | 第97-98页 |
| ·激光打印装置 | 第97页 |
| ·图形化化学镀铜的方法 | 第97-98页 |
| ·结果与讨论 | 第98-100页 |
| ·超声清洗中溶剂的选择 | 第98-99页 |
| ·银离子的活化作用 | 第99页 |
| ·薄膜表面的图形化化学镀 | 第99-100页 |
| ·本章小结 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-105页 |
| 第五章 PVP/AgNO_3胶体用于激光诱导图形化化学镀的研究 | 第105-126页 |
| ·引言 | 第105-108页 |
| ·实验部分 | 第108-110页 |
| ·实验试剂 | 第108页 |
| ·PVP/AgNO_3胶体溶液的配制 | 第108页 |
| ·选择性化学镀铜的工艺 | 第108-109页 |
| ·表征技术 | 第109-110页 |
| ·结果与讨论 | 第110-122页 |
| ·激光光刻前后的AFM形貌 | 第110-111页 |
| ·激光光刻后的XPS分析 | 第111-113页 |
| ·激光通量对银纳米粒子形貌的影响 | 第113-115页 |
| ·PVP与AgNO_3配比对银纳米粒子形貌的影响 | 第115-118页 |
| ·选择性化学镀 | 第118-122页 |
| ·镀层的形貌 | 第118-119页 |
| ·激光扫描速度的影响 | 第119-121页 |
| ·镀层的性质 | 第121-122页 |
| ·本章小结 | 第122-123页 |
| 参考文献 | 第123-126页 |
| 第六章 全文总结和展望 | 第126-130页 |
| ·本文的主要内容 | 第126-127页 |
| ·五种方法的比较 | 第127-128页 |
| ·对以后工作的展望 | 第128-130页 |
| 致谢 | 第130-131页 |
| 攻读博士学位期间发表和已经投稿的论文 | 第131页 |
| 攻读博士学位期间申请的专利 | 第131页 |
