氮化铬薄膜制备及其摩擦学性能研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-8页
1 引言	第8-10页
2 综述	第10-24页
·国内外研究进展及常见的制备氮化铬薄膜方法	第10-11页
·磁控溅射	第11-19页
·概述	第11-12页
·磁控溅射与非平衡磁控溅射	第12-16页
·直流反应磁控溅射	第16页
·射频磁控溅射	第16-18页
·脉冲磁控溅射	第18-19页
·中频脉冲非平衡磁控溅射技术	第19-22页
·直流溅射电源	第19-21页
·中频交流孪生靶磁控溅射	第21-22页
·氮化铬薄膜在机械领域中的应用	第22-23页
·本课题的目的、意义及拟采用的实验方法	第23-24页
3 实验	第24-51页
·实验设计	第24-28页
·实验目的	第24页
·研究对象	第24页
·性能检测	第24页
·实验设计	第24-28页
·实验条件	第28-34页
·中频磁控溅射真空镀膜设备	第28-30页
·被镀试样	第30页
·实验步骤	第30页
·实验方法	第30-31页
·试样的检测	第31-34页
·实验数据和数据分析	第34-50页
·实验数据	第34页
·结果分析	第34-50页
·本章小结	第50-51页
4 摩擦学性能研究	第51-59页
·力学性能测试	第51-52页
·摩擦学性能测试	第52-55页
·划痕试验结果对比与分析	第52-54页
·摩擦磨损性能	第54-55页
·结果分析与讨论	第55-58页
·摩擦与磨损	第55-56页
·薄膜摩擦磨损性质的影响因素	第56-58页
·膜层干摩擦滑动磨损表面形貌及磨损机理	第58页
·本章小结	第58-59页
5 结论	第59-60页
致谢	第60-61页
参考文献	第61-65页
参与项目及发表学术论文列表	第65页