双轴织构Ni-W基带上反应溅射沉积氧化物种子层薄膜
| 摘 要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 概述 | 第10-22页 |
| ·高温超导材料的应用 | 第10-11页 |
| ·高温超导带材的发展 | 第11-15页 |
| ·实用化高温超导带材的要求 | 第11-12页 |
| ·第一代铋系高温超导带材 | 第12-13页 |
| ·第二代钇系高温超导带材 | 第13-15页 |
| ·第二代钇系超导带材制备方法 | 第15-19页 |
| ·金属基带的选择与制备 | 第15-17页 |
| ·金属基带的选择 | 第15-16页 |
| ·金属基带的制备方法 | 第16-17页 |
| ·过渡层材料的选择与制备 | 第17-19页 |
| ·过渡层材料的选择 | 第17-18页 |
| ·过渡层材料的制备方法 | 第18-19页 |
| ·超导层的制备 | 第19页 |
| ·种子层研究现状 | 第19-21页 |
| ·论文的选题依据和研究目标 | 第21-22页 |
| 第二章 实验方法与原理 | 第22-28页 |
| ·实验原理与装置 | 第22-24页 |
| ·二级溅射原理 | 第22-23页 |
| ·实验采用的直流溅射装置 | 第23-24页 |
| ·实验采用的基片 | 第24页 |
| ·实验采用的气体 | 第24页 |
| ·薄膜的分析表征方法 | 第24-28页 |
| ·X 射线衍射原理 | 第25-26页 |
| ·AFM 原理 | 第26-28页 |
| 第三章 氧化钇种子层研究 | 第28-34页 |
| ·说明 | 第28页 |
| ·工艺因素对Y_2O_3 薄膜的影响 | 第28-33页 |
| ·小结 | 第33-34页 |
| 第四章 氧化铈种子层研究 | 第34-50页 |
| ·说明 | 第34页 |
| ·等温退火法沉积CEO_2中工艺因素对薄膜的影响 | 第34-38页 |
| ·两步生长法 | 第38-45页 |
| ·正交实验 | 第38-45页 |
| ·正交实验设计 | 第38-40页 |
| ·极差分析 | 第40-42页 |
| ·方差分析 | 第42-44页 |
| ·优化条件试验 | 第44-45页 |
| ·两种CEO_2 沉积方法对比 | 第45-49页 |
| ·优化工艺条件对比 | 第45页 |
| ·优化结果对比 | 第45-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第五章 YBCO/CEO_2/NI-W 试制 | 第50-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-59页 |
| 作者读硕期间取得的成果 | 第59页 |
